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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0158694 (2005-06-22) |
등록번호 | US-7267607 (2007-09-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 29 |
The invention is directed to a chemical-mechanical polishing pad substrate comprising a microporous closed-cell foam characterized by a narrow pore size distribution in the range of about 0.01 microns to about 10 microns. The polishing pad is produced by foaming a solid polymer sheet with a supercri
What is claimed is: 1. A chemical-mechanical polishing pad substrate comprising a microporous polymeric foam wherein at least 70% of the pores of the microporous polymeric foam are closed-celled and have an average pore size in the range of about 0.01 μm to about 10 μm, wherein the polyme
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