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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0450430 (2001-12-14) |
등록번호 | US-7270136 (2007-09-18) |
우선권정보 | KR-2000-77114(2000-12-15) |
국제출원번호 | PCT/KR01/002169 (2001-12-14) |
§371/§102 date | 20030612 (20030612) |
국제공개번호 | WO02/049085 (2002-06-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 36 |
The invention concerns an apparatus for cleaning the edge of a wafer that may be relatively simply constructed with low cost, and prevent the wafer from being re-contaminated by the edge cleaning, thus resulting in increase of the yield rate of wafers. The apparatus includes a cleaning agent ejectio
What is claimed is: 1. An apparatus for cleaning the edge of a wafer, comprising: a cleaning agent storage tank for storing a highly pressurized cleaning agent; a cleaning agent ejection nozzle body connected through a first line with said cleaning agent storage tank and disposed on a side part of
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