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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0956844 (2004-09-30) |
등록번호 | US-7275856 (2007-10-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 20 |
The present invention provides an apparatus 20 for forming a striation-reduced chemical mechanical polishing pad 4. The polishing pad 4 comprises a first delivery line 66 for delivering a polymeric material 52 into a mixer 68 and a second delivery line 44 for delivering microspheres 48 into the mix
What is claimed is: 1. An apparatus for forming a striation-reduced chemical mechanical polishing pad, comprising: a first delivery line for delivering a polymeric material into a mixer; a second delivery line for delivering microspheres having an initial bulk density into the mixer with the polyme
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