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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0099114 (2005-04-05) |
등록번호 | US-7282941 (2007-10-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 9 |
A method of measuring at least one electrical property of a semiconductor wafer includes providing an elastically deformable and electrically conductive contact having an insulative oxide layer formed on an exterior surface thereof by a controlled oxidation process, such as, without limitation, ther
The invention claimed is: 1. A method of measuring at least one electrical property of a semiconductor wafer comprising: (a) providing an elastically deformable and electrically conductive contact having an insulative oxide layer formed on an exterior surface thereof by a controlled oxidation proce
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