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Method of increasing the area of a useful layer of material transferred onto a support 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/46
  • H01L-021/02
출원번호 US-0619596 (2003-07-16)
등록번호 US-7294557 (2007-11-13)
우선권정보 FR-02 09020(2002-07-17)
발명자 / 주소
  • Maleville,Christophe
출원인 / 주소
  • S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
대리인 / 주소
    Winston & Strawn LLP
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 5

초록

A method for transferring a first substrate to a second substrate. First and second front faces of first and second substrates, respectively, are molecularly bonded to each other to provide a composite structure. The first front face has a first outline, the second front face has a second outline, a

대표청구항

What is claimed is: 1. A method for transferring a first substrate to a second substrate, which comprises: molecularly bonding to each other first and second front faces of first and second substrates, respectively, to provide a composite structure, the first and second front faces being substantia

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Andre-Jacques Auberton-Herve FR, Method for forming cavities in a semiconductor substrate by implanting atoms.
  2. Ito Tatsuo (Joetsu JPX) Uchiyama Atsuo (Chiisagata JPX) Fukami Masao (Nagano JPX), Method for preparing a substrate for semiconductor devices.
  3. Yen Yung C. (5770 Harder St. San Jose CA 95129), Method to make a SOI wafer for IC manufacturing.
  4. Iwasaki, Yukiko; Nishida, Shoji; Sakaguchi, Kiyofumi; Ukiyo, Noritaka, Process for producing semiconductor member, process for producing solar cell, and anodizing apparatus.
  5. Bruel Michel (Veurey FRX), Process for the production of thin semiconductor material films.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Sinha, Nishant; Sandhu, Gurtej S.; Smythe, John, Semiconductor material manufacture.
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