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Nano-imprint system with mold deformation detector and method of monitoring the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B29C-043/58
  • B29C-045/76
출원번호 US-0791926 (2004-03-02)
등록번호 US-7303703 (2007-12-04)
우선권정보 TW-92133432 A(2003-11-27)
발명자 / 주소
  • Hocheng,Hong
  • Nien,Chin Chung
출원인 / 주소
  • Hocheng,Hong
  • Nien,Chin Chung
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 4

초록

A system for nano-imprint with mold deformation detector is disclosed for real-time monitoring of the deformation of the mold. An electrostatic plate capacitor is embedded in the mold, serving as the deformation detector. The capacitor includes two opposite metal film electrodes formed by silicon mi

대표청구항

What is claimed is: 1. An apparatus for monitoring mold deformation in nano-imprint, comprising: a mold body having a first surface and an opposite second surface, imprinting patterns being formed in areas of the second surface; an electrostatic plate capacitor comprising first and second metal fil

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Watkins Brad H. (Traverse City MI), Apparatus for sensing pressure in mold cavity during injection of molded parts.
  2. Eppich, Stefan; Ellinger, Alfred, Device for monitoring force and pressure in injection molding machines.
  3. Chou Stephen Y., Nanoimprint lithography.
  4. Chou Stephen Y., Release surfaces, particularly for use in nanoimprint lithography.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Salo, Antti; Kosonen, Matti, Flexible device deformation measurement.
  2. Suehira, Nobuhito; Seki, Junichi; Majima, Masao, Imprint apparatus and imprint method.
  3. Suehira, Nobuhito; Seki, Junichi; Ina, Hideki, Imprint apparatus, imprint method, and mold for imprint.
  4. Suehira, Nobuhito; Seki, Junichi; Ina, Hideki, Imprint apparatus, imprint method, and mold for imprint.
  5. Bousack, Herbert; Soltner, Helmut; Mayer, Dirk; Banzet, Marko, Infrared sensor comprising tunnel junction for measuring the deformation of a membrane.
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