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Photomask container 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B28B-001/20
  • B28B-001/00
  • B28B-001/02
  • B28B-001/48
  • B65D-006/00
  • B65D-057/00
출원번호 US-0286696 (2005-11-23)
등록번호 US-7309460 (2007-12-18)
발명자 / 주소
  • Johnson,Michael L.
  • Rauworth,Barry L.
출원인 / 주소
  • Entegris, Inc.
대리인 / 주소
    Patterson, Thuente, Skaar & Christensen, P.A.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 14

초록

A container suitable for storing and transporting photomasks and including a container body, a cover, first and second cushions and left and right channels disposed in slots formed in the container body. In one embodiment, the container of this invention is formed in a one-piece design by rotomoldin

대표청구항

What is claimed is: 1. A method for making a container for a photomask, comprising: forming a unitary container body having a top, a bottom, a front, a back and two sides; removing portions of the container body from the two sides to define side slots; inserting channels into the side slots; meltin

이 특허에 인용된 특허 (14)

  1. Christ Allen E. (Scottsdale AZ) Roche Thomas A. (Tempe AZ), Apparatus and method for protecting integrated circuits.
  2. Tabuchi Kazuhiro (Tokyo JPX) Inomata Hiroyuki (Tokyo JPX) Yamauchi Takashi (Tokyo JPX), Case for photomask.
  3. Kosugi Masao (Yokohama JPX) Iizuka Kazuo (Yokohama JPX), Container for a sheet-like article.
  4. Abrams Robert S. (Albany NY) Supranowicz Ronald P. (Lenox MA), Container for a wafer chip.
  5. Iwamoto Kenji,JPX ; Fujimoto Kazuo,JPX, Container for flat panel.
  6. Miller Anne K. M. (Redwood City CA) Mason Richard (Campbell CA), Container for masks and pellicles.
  7. Nakazato Hiroshi (Ohme JPX) Iijima Mamoru (Yokohama JPX), Dust-proof container having improved construction for holding a reticle therein.
  8. van de Velde David H. (13200 Fiori La. Sebastopol CA 95472) Guido Anthony Y. (San Francisco CA 94133), Method and apparatus for back bar freezer unit.
  9. Brescia Anthony J. ; Trent ; III Smith E., Method of making a rotationally molded container rim.
  10. King,Nathan; Schwiebert,Jennifer; Morgan,John; Engen,Gary, Multi-layer rotational plastic molding.
  11. Winn Ray (11803 Addison St. North Hollywood CA 91607), Photomask carrier and container for photomask carrier.
  12. Toshimitsu Watanabe (Tokyo JPX) Matsuzawa Y. (Tokyo JPX), Photomask container.
  13. DeMent David L. (Millersport OH), Process of making a lined container and the product.
  14. Yamauchi Takashi (Tokyo JPX), Substrate holding case.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Kolbow, Steven P.; McMullen, Kevin; Tieben, Anthony M.; Kusz, Matthew; Halbmaier, David L.; Lystad, John, Reticle pod.
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