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Exposure apparatus and exposing method for elastically deforming a contact mask with control data 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/64
  • G03B-027/20
  • G03B-027/02
출원번호 US-0167178 (2005-06-28)
등록번호 US-7312853 (2007-12-25)
우선권정보 JP-2004-192263(2004-06-29)
발명자 / 주소
  • Kiriya,Shinobu
출원인 / 주소
  • Canon Kabushiki Kaisha
대리인 / 주소
    Fitzpatrick, Cella, Harper & Scinto
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 7

초록

An exposure apparatus for exposing an object to be exposed by elastically deforming an exposing mask having a micro-opening pattern so as to bring the exposing mask into contact with the object includes a compression/decompression section for elastically deforming the exposing mask with compression/

대표청구항

What is claimed is: 1. An exposure apparatus for exposing an object to be exposed by elastically deforming an exposing mask having an opening pattern so as to bring the exposing mask into contact with the object, the exposure apparatus comprising: compression/decompression means for elastically def

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Kuroda Ryo,JPX ; Ikeda Tsutomu,JPX ; Shimada Yasuhiro,JPX, Exposure method and exposure apparatus.
  2. Inao, Yasuhisa; Kuroda, Ryo; Yamaguchi, Takako, Exposure method and exposure apparatus using near-field light and exposure mask.
  3. Kuroda Ryo,JPX ; Ohyama Junji,JPX, Mask for evanescent light exposure, object to be exposed and apparatus using same.
  4. Inao,Yasuhisa; Kuroda,Ryo, Near-field light exposure mask with avoidance of overlap of near-field light, method for manufacturing the same, exposure apparatus and method using near-field light exposure mask, and method for man.
  5. Yamaguchi, Takako; Kuroda, Ryo, Pattern-forming method using photomask, and pattern-forming apparatus.
  6. Mizutani,Natsuhiko; Inao,Yasuhisa, Photomask for near-field exposure and exposure apparatus including the photomask for making a pattern.
  7. Lamontagne Robert E. (Boulder CO) Scull Jon V. (Longmont CO), Pressure control for pumps.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Yang, Pai-Hsueh; Yuan, Bausan; Masaki, Kazuo; Hirano, Kazuhiro; Yang, Xiao-Feng; Coakley, Scott; Binnard, Michael B., On-machine methods for identifying and compensating force-ripple and side-forces produced by actuators on a multiple-axis stage.
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