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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0846906 (2004-05-14) |
등록번호 | US-7317577 (2008-01-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 25 |
An opaque matrix that defines transparent apertures may be formed on a lenticular lens by applying an infrared radiation sensitive material to the flat surface of the lenticular lens, projecting infrared radiation through the lenticular lens onto the infrared radiation sensitive material to create e
The invention claimed is: 1. A method of forming an opaque matrix on a lenticular lens comprising the steps of: (a) applying an infrared radiation sensitive material comprising a colorant and an infrared absorbing dye to the flat surface of the lenticular lens; (b) projecting infrared radiation thr
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