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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0506544 (2003-03-13) |
등록번호 | US-7319295 (2008-01-15) |
우선권정보 | JP-2002-070181(2002-03-14) |
국제출원번호 | PCT/JP03/002986 (2003-03-13) |
§371/§102 date | 20050114 (20050114) |
국제공개번호 | WO03/077293 (2003-09-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 14 |
A radio frequency power supply structure and a plasma CVD device comprising the same are provided in which reflection of radio frequency power at a connecting portion where an RF cable connects to an electrode is reduced so that incidence of the radio frequency power into the electrode increases. In
What is claimed is: 1. A radio frequency power supply structure for use in a device generating plasma by charging a plate-like electrode, facing an earth electrode, with a radio frequency power, said radio frequency power supply structure supplying said plate-like electrode with the radio frequency
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