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Apparatus for fluid pressure imprint lithography 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/302
  • H01L-021/02
출원번호 US-0926376 (2004-08-25)
등록번호 US-7322287 (2008-01-29)
발명자 / 주소
  • Tan,Hua
  • Kong,Linshu
  • Li,Mingtao
  • Chou,Stephen Y.
출원인 / 주소
  • Nanonex Corporation
대리인 / 주소
    Polster, Lieder, Woodruff & Lucchesi, LC
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 6

초록

Improved apparatus for imprint lithography involves using direct fluid pressure to press a mold into a substrate-supported film. Advantageously the mold and/or substrate are sufficiently flexible to provide wide area contact under the fluid pressure. Fluid pressing can be accomplished by sealing th

대표청구항

We claim: 1. An apparatus for performing imprint lithography on a substrate having a moldable surface comprising: a pressure chamber for receiving pressurized fluid; an assembly of a mold and the substrate, the mold having a molding surface with a plurality of protruding features for imprinting the

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Mueller Lutz,DEX ; Reuther Frank,DEX ; Springer Alf,DEX ; Heckele Matthias,DEX ; Biedermann Hans,DEX, Apparatus for molding microsystem structures.
  2. Stephen Y. Chou, Fluid pressure imprint lithography.
  3. Blalock Guy, Global planarization method and apparatus.
  4. Wang Dapeng ; Hofmann James, Methods of forming semiconductor devices and methods of forming field emission displays.
  5. Marian Mankos ; Steven T Coyle ; Andres Fernandez ; Tai-Hon P Chang, Multiple beam electron beam lithography system.
  6. Burgin Timothy P. ; Choong Vi-en ; Maracas George N. ; Mance Thomas M., Printing apparatus with inflatable means for advancing a substrate towards the stamping surface.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Zhang, Wei; Tan, Hua; Hu, Lin; Chou, Stephen Y., Fast nanoimprinting methods using deformable mold.
  2. Harper, Bruce M.; Saito, Toshiyuki Max, Imprint embossing alignment system.
  3. Harper, Bruce M.; Saito, Toshiyuki Max, Imprint embossing alignment system.
  4. Wu, Wei; Tong, William M.; Gao, Jun; Picciotto, Carl, Imprint lithography apparatus and method employing an effective pressure.
  5. Tan, Hua; Hu, Lin; Zhang, Wei; Chou, Stephen Y., Imprint lithography system and method for manufacturing.
  6. Itoh, Masamitsu; Kanamitsu, Shingo, Imprint mask, method for manufacturing the same, and method for manufacturing semiconductor device.
  7. Itoh, Masamitsu; Kanamitsu, Shingo, Imprint mask, method for manufacturing the same, and method for manufacturing semiconductor device.
  8. Nakagawa, Kazuki; Hasegawa, Noriyasu; Murakami, Yosuke; Matsumoto, Takahiro, Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method.
  9. Nakagawa, Kazuki; Hasegawa, Noriyasu; Murakami, Yosuke; Matsumoto, Takahiro, Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method.
  10. Nakagawa, Kazuki; Hasegawa, Noriyasu; Murakami, Yosuke; Matsumoto, Takahiro, Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method.
  11. Treves, David; Dorsey, Paul C., Imprinting method with embossing foil free to expand for nano-imprinting of recording media.
  12. Treves, David; Dorsey, Paul C., Press system for nano-imprinting of recording media with a two step pressing method.
  13. Treves, David; Dorsey, Paul C., Press system with embossing foil free to expand for nano-imprinting of recording media.
  14. Treves, David; Dorsey, Paul C., Press system with embossing foil free to expand for nano-imprinting of recording media.
  15. Treves, David; Dorsey, Paul C.; Siu, Calvin Tue Chiu, Press system with interleaved embossing foil holders for nano-imprinting of recording media.
  16. Treves, David; Dorsey, Paul C.; Siu, Calvin Tue Chiu, Press system with interleaved embossing foil holders for nano-imprinting of recording media.
  17. Nguyen, Houng T.; Xu, Ren; Barnes, Michael S., Process for optimization of island to trench ratio in patterned media.
  18. Imada, Aya; Den, Toru, Process of production of patterned structure.
  19. Tan, Hua; Hu, Lin; Chou, Stephen Y., System and methods of mold/substrate separation for imprint lithography.
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