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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0926376 (2004-08-25) |
등록번호 | US-7322287 (2008-01-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 6 |
Improved apparatus for imprint lithography involves using direct fluid pressure to press a mold into a substrate-supported film. Advantageously the mold and/or substrate are sufficiently flexible to provide wide area contact under the fluid pressure. Fluid pressing can be accomplished by sealing th
We claim: 1. An apparatus for performing imprint lithography on a substrate having a moldable surface comprising: a pressure chamber for receiving pressurized fluid; an assembly of a mold and the substrate, the mold having a molding surface with a plurality of protruding features for imprinting the
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