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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0217680 (2005-09-02) |
등록번호 | US-7338887 (2008-03-04) |
우선권정보 | JP-2004-338088(2004-11-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 6 |
A method that controls the distribution of plasma generated in a vacuum chamber, for example, as part of a plasma thin film deposition or plasma etching process. For thin film deposition, the method serves to minimize variations in film thickness caused by the variations of the film deposition condi
What is claimed is: 1. A plasma control method for controlling distribution of a plasma generated in a vacuum chamber including a first electrode connected to a high-frequency electric power supply and a second electrode facing the first electrode, the second electrode being connected to one of gro
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