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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0925096 (2004-08-24) |
등록번호 | US-7361316 (2008-04-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 4 |
A system for the purification and recycle of impure argon is disclosed herein. The system of the present invention can produce very high purity argon, i.e., about 1 ppb or less of impurities. In one embodiment, a cryogenic separation apparatus is used to remove the nitrogen, hydrocarbon, and hydroge
I claim: 1. A system for the purification of an impure argon stream comprising oxygen, nitrogen, carbon monoxide, carbon dioxide, water, hydrocarbons, and dopants from a silicon crystal growth furnace, the system comprising: a scrubber that is in fluid communication with the silicon crystal growth
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