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특허 상세정보

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Method and apparatus for the abatement of toxic gas components from a semiconductor manufacturing process effluent stream

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) B01D-053/04    B01D-053/68    B01D-059/26    B01D-059/00   
미국특허분류(USC) 095/133; 095/131; 095/132; 096/132; 096/133; 096/135; 096/136; 096/142; 096/131
출원번호 US-0928977 (2004-08-27)
등록번호 US-7364603 (2008-04-29)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Dugan & Dugan, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 19
초록
▼

An apparatus and process for abating at least one acid or hydride gas component or by-product thereof, from an effluent stream deriving from a semiconductor manufacturing process, comprising, a first sorbent bed material having a high capacity sorbent affinity for the acid or hydride gas component, a second and discreet sorbent bed material having a high capture rate sorbent affinity for the same gas component, and a flow path joining the process in gas flow communication with the sorbent bed materials such that effluent is flowed through the sorbent bed...

대표
청구항
▼

We claim: 1. An apparatus for abatement of at least one toxic gas component or by-product thereof, from an effluent stream deriving from a semiconductor manufacturing process, such apparatus comprising: a first sorbent bed material having a high surface area and a physical sorbent affinity for trapping the at least one toxic gas component; a second discrete sorbent bed material having a high capacity sorbent affinity for the at least one toxic gas component; a third discrete sorbent bed material having a high capture rate sorbent affinity for the at lea...

이 특허에 인용된 특허 (19)

  1. Holst, Mark; Dubois, Ray; Arno, Jose; Faller, Rebecca; Tom, Glenn. Abatement of effluents from chemical vapor deposition processes using organometallic source reagents. USP2003036537353.
  2. Deng Shuguang ; Kumar Ravi ; Bulow Martin ; Fitch Frank R. ; Ojo Adeola Florence ; Gittleman Craig S.. Air purification process. USP2001056238460.
  3. Leavitt Frederick W. (North Tonawanda NY). Duplex adsorption process. USP1992025085674.
  4. Tom Glenn M. ; McManus James V.. Gas source and dispensing system. USP1999115993766.
  5. Hayes, Michael W.; Holst, Mark R.; Arno, Jose I.; Tom, Glenn M.. Integrated ion implant scrubber system. USP2003046540814.
  6. Michael W. Hayes ; Mark R. Holst ; Jose I. Arno. Integrated ion implant scrubber system. USP2002016338312.
  7. Nagji Moez M. (Yonkers NY) Holmes Ervine S. (Yorktown Heights NY) Pai Jenny L. (Brookfield Center CT). Integrated process for the removal of sulfur compounds from fluid streams. USP1992055114689.
  8. Sweeney, Joseph D.; Marganski, Paul J.; Olander, W. Karl; Wang, Luping. Method and apparatus for the abatement of toxic gas components from a semiconductor manufacturing process effluent stream. USP2004106805728.
  9. Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX). Method for cleaning exhaust gases. USP1988054743435.
  10. Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX) Akita Noboru (Kanagawa JPX) Hiramoto Tadashi (Kanagawa JPX) Sasaki Kohhei (Kanagawa JPX). Method for cleaning exhaust gases. USP1991024996030.
  11. Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Akita Noboru (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX) Sasaki Kohhei (Kanagawa JPX) Hiramoto Tadashi (Kanagawa JPX). Method for cleaning gas containing toxic component. USP1990034910001.
  12. Sugimori Yoshiaki,JPX ; Watanabe Tadaharu,JPX ; Kikuchi Hitoshi,JPX ; Endo Fumitaka,JPX ; Ichimura Shinji,JPX ; Yoshida Megumi,JPX ; Imai Hiroaki,JPX. Method for removing hydrides, alkoxides and alkylates out of a gas using cupric hydroxide. USP1998125853678.
  13. Gaffney Thomas R. (Allentown PA) Farris Thomas S. (Bethlehem PA) Cabrera Alejandro L. (Fogelsville PA) Armor John N. (Orefield PA). Modified carbon molecular sieves for gas separation. USP1992035098880.
  14. Golden Timothy Christopher ; Taylor Fred William ; Kalbassi Mohammed Ali,GBX ; Schmidt William Paul. PSA process for removel of nitrogen oxides from gas. USP1999075919286.
  15. Christian Monereau FR; Serge Moreau FR. Process for purifying a gas by adsorption of the impurities on several active carbons. USP2002066402813.
  16. Johnson Marvin M. (Bartlesville OK) Nowack Gerhard P. (Bartlesville OK). Process for removal of arsine impurities from gases containing arsine and hydrogen sulfide. USP1986064593148.
  17. Delobel Olivier (Paris FRX) Louise Jean (Villejuif FRX) Cornut Philippe (Echirolles FRX). Process for removing gaseous hydrides from a solid support comprising metallic oxides. USP1995015378439.
  18. Carnell Peter John Herbert,GBX ; Willis Edwin Stephen,GBX. Removal of sulphur together with other contaminants from fluids. USP1999126007706.
  19. Ravi Kumar ; Madhusudhan Huggahalli ; Martin Bulow. Thermal swing adsorption process. USP2002086432171.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 2

  1. Anfang, Hans-Georg; Hamel, Christian; Modl, Norbert. Device for the adsorption treatment of a fluid or fluid stream. USP2015109149756.
  2. Siriwardane, Ranjani. Regenerable hydrogen chloride removal sorbent and regenerable multi-functional hydrogen sulfide and hydrogen chloride removal sorbent for high temperature gas streams. USP2010087767000.

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