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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0928977 (2004-08-27) |
등록번호 | US-7364603 (2008-04-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 19 |
An apparatus and process for abating at least one acid or hydride gas component or by-product thereof, from an effluent stream deriving from a semiconductor manufacturing process, comprising, a first sorbent bed material having a high capacity sorbent affinity for the acid or hydride gas component,
We claim: 1. An apparatus for abatement of at least one toxic gas component or by-product thereof, from an effluent stream deriving from a semiconductor manufacturing process, such apparatus comprising: a first sorbent bed material having a high surface area and a physical sorbent affinity for trap
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