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Optical system for detecting anomalies and/or features of surfaces 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-021/00
출원번호 US-0874861 (2004-06-22)
등록번호 US-7365834 (2008-04-29)
발명자 / 주소
  • Lewis,Isabella
  • Vaez Iravani,Mehdi
출원인 / 주소
  • KLA Tencor Technologies Corporation
대리인 / 주소
    Davis Wright Tremaine LLP
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 25

초록

A surface inspection of the system applies a first oblique illumination beam and may also apply a second illumination beam to illuminate a surface either sequentially or simultaneously. Radiation reflected or scattered is collected by preferably three collection channels and detected by three corres

대표청구항

What is claimed is: 1. An optical apparatus for detecting anomalies of a sample, comprising: first optics focusing a beam of radiation into a first focused beam at an oblique first incidence angle to a first line focused on a surface of the sample, said first beam and a direction that is through th

이 특허에 인용된 특허 (25)

  1. Noguchi,Minori; Ohshima,Yoshimasa; Nishiyama,Hidetoshi; Matsumoto,Shunichi; Kembo,Yukio; Matsunaga,Ryouji; Sakai,Keiji; Ninomiya,Takanori; Watanabe,Tetsuya; Nakamura,Hisato; Jingu,Takahiro; Morishige, Apparatus and method for testing defects.
  2. Schaham Moshe (West Hartford CT), Auto focusing bar code reader.
  3. Addiego Ginetto, Automated specimen inspection system for and method of distinguishing features or anomalies under either bright field o.
  4. Nakamura Hisato (Saitama-ken JPX) Watanabe Tetsuya (Honjo JPX) Morishige Yoshio (Honjo JPX), Extraneous substance inspection method and apparatus.
  5. Morioka Hiroshi (Ebina JPX) Noguchi Minori (Yokohama JPX) Ohshima Yoshimasa (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Nishiyama Hidetoshi (Fujisawa JPX) Matsuoka Kazuhiko (Gunma JPX) Shigyo Yoshiharu, Method and apparatus for analyzing the state of generation of foreign particles in semiconductor fabrication process.
  6. Nakata Toshihiko (Hiratsuka JPX) Ninomiya Takanori (Hiratsuka JPX) Kobayashi Hilario H. (Yokohama JPX), Method and apparatus for detecting photoacoustic signal.
  7. Shimono Ken,JPX ; Nagasaki Tatsuo,JPX ; Takamoto Kenji,JPX ; Ito Masami,JPX ; Nishii Kanji,JPX, Method and apparatus for particle inspection.
  8. Yamaguchi Kazuo (Sagamihara JPX) Kuni Asahiro (Nakamachi JPX) Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Endo Juro (Kumagaya JPX), Method of inspecting microscopic surface defects.
  9. Maltby ; Jr. Robert E. (Wayne OH), Optical roller wave gauge.
  10. Jann Peter C., Optical sensor with an elliptical illumination spot.
  11. Nikoonahad Mehrdad (Menlo Park CA) Rigg Philip R. (Saratoga CA) Wells Keith B. (Santa Cruz CA) Calhoun David S. (Mountain View CA), Optical wafer positioning system.
  12. Kimura Kei (Kanagawa JPX), Original-illuminating device for use in an image-reading device.
  13. Vaught John L. (Palo Alto CA) Neukermans Armand P. (Palo Alto CA) Keldermann Herman F. (Berkeley CA) Koenig Franklin R. (Palo Alto CA), Particle detection on patterned wafers and the like.
  14. Levy Kenneth (Saratoga CA) Buchholz Steve (San Jose CA) Broadbent William H. (Sunnyvale CA) Wihl Mark J. (San Jose CA), Photomask inspection apparatus and method with improved defect detection.
  15. Vaez Iravani,Mehdi; Stokowski,Stanley; Zhao,Guoheng, Sample inspection system.
  16. Vaez Iravani,Mehdi; Stokowski,Stanley; Zhao,Guoheng, Sample inspection system.
  17. Vaez-Iravani, Mehdi; Stokowski, Stanley; Zhao, Guoheng, Sample inspection system.
  18. Vaez-Iravani, Mehdi; Stokowski, Stanley; Zhao, Guoheng, Sample inspection system.
  19. Vaez-Iravani, Mehdi; Stokowski, Stanley; Zhao, Guoheng, Sample inspection system.
  20. Miura Seiya (Utsunomiya JPX) Kohno Michio (Utsunomiya JPX), Surface inspecting device.
  21. Haga Kazumi,JPX ; Sakai Motoshi,JPX, Surface inspection method and apparatus.
  22. Jordan ; III John R. ; Nikoonahad Mehrdad ; Wells Keith B., Surface inspection system.
  23. Vaez Iravani,Mehdi; Zhao,Guoheng; Stokowski,Stanley E., System for detecting anomalies and/or features of a surface.
  24. Biellak, Steve; Stokowski, Stanley E.; Vaez-Iravani, Mehdi, Systems and methods for a wafer inspection system using multiple angles and multiple wavelength illumination.
  25. Nikoonahad Mehrdad (Menlo Park CA) Tebelskis James A. (San Jose CA), Wafer alignment sensor.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Zhao, Guoheng; Vaez-Iravani, Mehdi; Young, Scott; Bhaskar, Kris, Dark field inspection system with ring illumination.
  2. Shibata, Yukihiro; Fukushima, Hideki; Urano, Yuta; Honda, Toshifumi, Defect inspection method and device using same.
  3. Shibata, Yukihiro; Fukushima, Hideki; Urano, Yuta; Honda, Toshifumi, Defect inspection method and device using same.
  4. Urano, Yuta; Honda, Toshifumi, Method and apparatus for inspecting defects.
  5. Meeks, Steven W., Multi-wavelength system and method for detecting epitaxial layer defects.
  6. Ahn, Myoung-Ki; Ahn, Jin-Woo; Kim, Young-Gwon; Ahn, Tae-Jun; Jo, Tae-Yong; Heo, Young, Optical module for surface inspection and surface inspection apparatus including the same.
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