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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0842451 (2004-05-11) |
등록번호 | US-7374844 (2008-05-20) |
우선권정보 | JP-2003-132517(2003-05-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 6 |
A photomask including a light-transmissible base member; and a light-blocking film provided thereon. The film has a micro-aperture adapted to expose an object to near-field light seeping out from the micro-aperture. The photomask further includes a periodic structure with a pitch and a phase compris
What is claimed is: 1. A photomask for exposure to near-field light, said photomask comprising: a light-transmissible base member; and a light-blocking film provided on the base member, said film having a micro-aperture adapted to expose an object to near-field light seeping out from the micro-aper
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