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Hydrogen vent for optoelectronic packages with resistive thermal device (RTD) 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/22
출원번호 US-0925321 (2004-08-23)
등록번호 US-7377961 (2008-05-27)
발명자 / 주소
  • McDonald,Mark E.
출원인 / 주소
  • Intel Corporation
대리인 / 주소
    Reif,Kevin A.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 5

초록

Thermally tuned lasers may use a resistive thermal device (RTD), sensitive to hydrogen, within a hermetic enclosure. Over time, hydrogen trapped within the enclosure or out gassed from other components within the enclosure may degrade the accuracy of the RTD. A vent comprising a hydrogen selective p

대표청구항

What is claimed is: 1. An apparatus, comprising: a resistive thermal device (RTD) sensitive to hydrogen; a material to out gas trapped hydrogen; a sealed enclosure housing the RTD and the material, the RTD comprising a platinum layer and one of a chromium and titanium adhesion layer; an inert gas a

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Steven McPhilmy ; Harry Johnson ; Ghassan Zamat, Hydrogen getter package assembly.
  2. Dougherty Thomas K. ; Ramer O. Glenn ; Dyer Venita L., Hydrogen getters and methods for fabricating sealed microelectronic packages employing same.
  3. Stupian Gary W. (Hermosa Beach CA) Leung Martin S. (Redondo Beach CA), Hydrogen out venting electronic package.
  4. Derkits ; Jr. Gustav Edward ; Lopata John ; Nash Franklin Richard, Structure for absorption of hydrogen in a package.
  5. Sittler Fred C. (Victoria MN) Toy Adrian C. (Eden Prairie MN), Thin film platinum resistance thermometer with high temperature diffusion barrier.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Weinberg, Harvey, Mounting method for satellite crash sensors.
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