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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0925321 (2004-08-23) |
등록번호 | US-7377961 (2008-05-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 5 |
Thermally tuned lasers may use a resistive thermal device (RTD), sensitive to hydrogen, within a hermetic enclosure. Over time, hydrogen trapped within the enclosure or out gassed from other components within the enclosure may degrade the accuracy of the RTD. A vent comprising a hydrogen selective p
What is claimed is: 1. An apparatus, comprising: a resistive thermal device (RTD) sensitive to hydrogen; a material to out gas trapped hydrogen; a sealed enclosure housing the RTD and the material, the RTD comprising a platinum layer and one of a chromium and titanium adhesion layer; an inert gas a
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