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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0091397 (2005-03-29) |
등록번호 | US-7378739 (2008-05-27) |
우선권정보 | KR-10-2004-0036854(2004-05-24); KR-10-2004-0037277(2004-05-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 16 |
A capacitor including a polysilicon layer doped with impurities to be conductive, a first dielectric layer formed on the polysilicon layer, a first conductive layer formed on the first dielectric layer, a second dielectric layer formed on the first conductive layer, and a second conductive layer for
What is claimed is: 1. A capacitor device, comprising: a polysilicon layer having a first area and a second area separately formed, and doped with impurities to be conductive; a first dielectric layer formed on the polysilicon layer; a first conductive layer formed on the first dielectric layer; a
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