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Strain detection for automated nano-manipulation 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01B-005/00
출원번호 US-0186072 (2005-07-21)
등록번호 US-7395727 (2008-07-08)
발명자 / 주소
  • Moore,Thomas M.
출원인 / 주소
  • Omniprobe, Inc.
대리인 / 주소
    Thomas,John A.
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 9

초록

A strain detector for in-situ lift-out, comprises a nano-manipulator probe shaft; a strain gauge mounted on the probe shaft; and a first cut-out on the probe shaft. The first cut-out has a rectangular cross-section. There is a second cut-out on the probe shaft; the second cut-out having a semicircul

대표청구항

I claim: 1. A strain detector for in-situ lift-out, comprising: a probe shaft; a first cut-out on the probe shaft; a second cut-out on the probe shaft, the second cut-out opposite from the first cut-out; the first and second cut-outs defining a first thinned region in the probe shaft; a first strai

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Hofstetter ; Jr. Edward G. (Louisville KY), Apparatus for making rheological measurements.
  2. Spirin, Vasilii V.; Shlyagin, Mikhail G.; Udd, Eric, Differential fiber optical sensor with interference energy analyzer.
  3. Lee ; Jr. Landris T. ; Leavell Daniel A. ; Malone Philip G., Geotechnical grouting device and method.
  4. Lin Yung-Shi,TWX, High-sensitivity strain probe.
  5. Horanoff ; Eugene V., Low interaction wind tunnel balance.
  6. Smith, Terry J., Method and apparatus for measuring normal contact forces in electrical connector.
  7. Hantschel, Thomas; Chow, Eugene M.; Fork, David K., Scanning probe system with spring probe.
  8. Suzuki, Hidekazu, Thin piece forming method.
  9. Sokol George J. (Scotia NY), Tube curvature measuring probe and method.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Confield, Ivan Fyfe; MacKay, Derek Gray; Melville, Robert George Andrew; Harvey, David, Lift measurement.
  2. Bowden, Frank Roger, Load monitoring system.
  3. Luo, Jian Shing; Huang, Lang Yu, Method of fabricating sample membranes for transmission electron microscopy analysis.
  4. Terada, Shohei, Specimen holder for charged-particle beam apparatus.
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