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Method of forming a polishing pad having reduced striations 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B28B-011/18
  • B28B-011/00
출원번호 US-0956847 (2004-09-30)
등록번호 US-7396497 (2008-07-08)
발명자 / 주소
  • Koetas,Joseph P.
  • Leviton,Alan E.
  • Norton,Kari Ell
  • November,Samuel J.
  • Robertson,Malcolm W.
  • Saikin,Alan H.
출원인 / 주소
  • Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.
대리인 / 주소
    Oh,Edwin
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 17

초록

The present invention provides a method of forming a chemical mechanical polishing pad, comprising providing a tank with polymeric materials and providing a storage hopper with microspheres having an initial bulk density, wherein the storage hopper further comprises a porous membrane provided over a

대표청구항

What is claimed is: 1. A method of forming a chemical mechanical polishing pad, comprising: providing a tank with polymeric materials; providing a storage hopper with hollow polymeric microspheres having an initial bulk density, wherein the storage hopper further comprises a helical agitator and a

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Schmidt, Uwe; Stahler, Dirk, Agitator assembly.
  2. Reh Lothar (Zumikon CHX) Tesch Marc (Forch CHX) Hani Beat (Zuzwil CHX) Ruf Arthur (Schwerzenbach CHX) Meili Thomas (Zurich CHX) Goedicke Frank (Niederhelfenschwil CHX), Apparatus and method for dosing.
  3. Koetas,Joseph P.; Leviton,Alan E.; Norton,Kari Ell; November,Samuel J.; Robertson,Malcolm W.; Saikin,Alan H., Apparatus for forming a polishing pad having a reduced striations.
  4. Kolesar,David M.; Post,Robert L.; Saikin,Alan H.; Sarafinas,Aaron, Apparatus for forming a striation reduced chemical mechanical polishing pad.
  5. Lombardo, Brian, Foam semiconductor polishing belts and pads.
  6. Struthers, Ralph C.; Maxwell, Georges A., Hydrocarbon fueled hydrogen fuel generator system and apparatus in combination with hydrogen fuel cells.
  7. Duescher Wayne O., Lapping apparatus and method for high speed lapping with a rotatable abrasive platen.
  8. Shen James ; Costas Wesley D., Method of polishing.
  9. Kihara, Katushi; Mochizuki, Yoshimi, Methods for making urethane molded products for polishing pads.
  10. Shiro, Kuniyasu; Hashisaka, Kazuhiko; Oka, Tetsuo, Polishing pad.
  11. Preston,Spencer; Hutchins,Doug; Hymes,Steve, Polishing pad and method of making same.
  12. Kuniyasu Shiro JP; Hisashi Minamiguchi JP; Tetsuo Oka JP, Polishing pad and polishing device.
  13. Cook Lee M. (Steelville PA) Roberts John V. H. (Newark DE) Jenkins Charles W. (Newark DE) Pillai Raj R. (Newark DE), Polishing pads and methods for their use.
  14. Roberts John V. H. ; James David B. ; Cook Lee Melbourne, Polishing pads and methods relating thereto.
  15. David B. James ; Arun Vishwanathan ; Lee Melbourne Cook ; Peter A. Burke ; David Shidner, Polishing pads for chemical mechanical planarization.
  16. Reinhardt Heinz F. (Chadds Ford PA) Roberts John V. H. (Newark DE) McClain Harry G. (Middletown DE) Budinger William D. (Newark DE) Jensen Elmer W. (New Castle DE), Polymeric polishing pad containing hollow polymeric microelements.
  17. Clayton,Christopher, Reclamation treatment of bonded particulates.

이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. James, David B.; Roberts, John V. H., Apparatus for forming a porous reaction injection molded chemical mechanical polishing pad.
  2. Jang, Youngjun; Ahn, Bong-Su; Jeong, Jin-Su; Choi, Jungsik, Apparatus for manufacturing polishing pad and method of manufacturing polishing pad using the same.
  3. Cantrell, Brian T., Auto catch apparatus and method of use in making chemical mechanical polishing pads.
  4. Schwaegerl, Juergen; Sollfrank, Peter, Drill bit and method for manufacturing.
  5. Schwagerl, Jurgen, Drilling tool.
  6. Belongia, Brett M.; Saunders, Robert C., Liquid dispensing system with enhanced mixing.
  7. Kolesar, David; Sarafinas, Aaron; Saikin, Alan; Post, Robert L., Method of manufacturing chemical mechanical polishing layers.
  8. McClain, George; Saikin, Alan; Kolesar, David; Sarafinas, Aaron; Post, Robert L., Method of manufacturing chemical mechanical polishing layers.
  9. Esbenshade, John; Geiger, Andrew M; Libbers, Paul; November, Samuel J; Sacchetti, Paul J; Tracy, Jonathan; Verbaro, David; Watkins, Michael E, Mix head assembly for forming chemical mechanical polishing pads.
  10. Saunders, Robert C.; Belongia, Brett M., Reservoir for liquid dispensing system with enhanced mixing.
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