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Ion source with multi-piece outer cathode 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-029/04
출원번호 US-0123228 (2005-05-06)
등록번호 US-7405411 (2008-07-29)
발명자 / 주소
  • Walton,Hugh A.
출원인 / 주소
  • Guardian Industries Corp.
대리인 / 주소
    Nixon & Vanderhye P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 14

초록

In certain example embodiments of this invention, there is provided an ion source including an anode and a cathode. In certain example embodiments, a multi-piece outer cathode is provided. The multi-piece outer cathode allows precision adjustments to be made, thereby permitting adjustment of the mag

대표청구항

The invention claimed is: 1. An ion source comprising: a conductive cathode comprising an inner cathode and an outer cathode; an ion emitting gap formed at least partially between the inner cathode and the outer cathode; an anode located proximate the ion emitting gap; wherein the outer cathode com

이 특허에 인용된 특허 (14)

  1. Aston Graeme (Monument CO), Channel ion source.
  2. Kaufman Harold R., Closed drift ion source with improved magnetic field.
  3. Petrmichl, Rudolph Hugo, Cold cathode ion beam deposition apparatus with segregated gas flow.
  4. Rudolph Hugo Petrmichl, Cold cathode ion beam deposition apparatus with segregated gas flow.
  5. Maishev Yuri,RUX ; Ritter James ; Velikov Leonid ; Shkolnik Alexander, Cold-cathode ion source with a controlled position of ion beam.
  6. Veerasamy, Vijayen S.; Petrmichl, Rudolph Hugo; Luten, Henry A., Ion beam source with coated electrode(s).
  7. Veerasamy,Vijayen S.; Petrmichl,Rudolph Hugo, Ion source with electrode kept at potential(s) other than ground by zener diode(s), thyristor(s) and/or the like.
  8. Luten,Henry A.; Veerasamy,Vijayen S., Ion source with substantially planar design.
  9. Alekseev, Valery V.; Zelenkov, Vsevolod V.; Krivoruchko, Mark M.; Keem, John E., Ion sources.
  10. Veerasamy, Vijayen S.; Petrmichl, Rudolph Hugo, Method of ion beam milling a glass substrate prior to depositing a coating system thereon, and corresponding system for carrying out the same.
  11. Thomsen, Scott V.; Petrmichl, Rudolph Hugo; Longobardo, Anthony V.; Veerasamy, Vijayen S.; Hall, Jr., David R.; Luten, Henry, Method of manufacturing windshield using ion beam milling of glass substrate(s).
  12. Greenly John B. (Lansing NY), Pulsed ion beam source.
  13. Maishev Yuri,RUX ; Ritter James ; Velikov Leonid, Universal cold-cathode type ion source with closed-loop electron drifting and adjustable ion-emitting slit.
  14. Maishev Yuri,RUX ; Ritter James ; Velikuv Leonid, Universal cold-cathode type ion source with closed-loop electron drifting and adjustable ionization gap.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Krasnov, Alexey, High haze transparent contact including insertion layer for solar cells, and/or method of making the same.
  2. Murphy, Nestor P.; Rock, David E.; Walton, Hugh A.; Frati, Maximo, Ion source and metals used in making components thereof and method of making same.
  3. Krishnan, Mahadevan; Wilson, Kristi; Champagne, Kelan; Wright, Jason D.; Gerhan, Andrew N., Liquid metal ion thruster array.
  4. Thomsen, Scott V., Method of treating the surface of a soda lime silica glass substrate, surface-treated glass substrate, and device incorporating the same.
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