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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0405485 (2006-04-18) |
등록번호 | US-7427305 (2008-09-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 54 |
This invention relates to a method of making selected oxidizers or other free radical-producing compounds become more effective chemical etchants and/or oxidizers for CMP activities by promoting the formation of the free radicals in a CMP composition with one or more activators. The activator compri
The invention claimed is: 1. A composition for chemical-mechanical polishing comprising: an aqueous fluid comprising at least one per-compound oxidizer that produces at least one oxygen-containing free radicals when contacted with at least one activator; and a plurality of metal oxide abrasive part
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