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Integrated PVD system using designated PVD chambers

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/00
  • H01L-021/44
  • H01L-021/02
출원번호 US-0213662 (2005-08-26)
등록번호 US-7432184 (2008-10-07)
발명자 / 주소
  • Hosokawa,Akihiro
  • Inagawa,Makoto
  • Le,Hienminh Huu
  • White,John M.
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Patterson & Sheridan LLP
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 22

초록

A method for making a film stack containing one or more metal-containing layers and a substrate processing system for forming the film stack on a substrate are provided. The substrate processing system includes at least one transfer chamber coupled to at least one load lock chamber, at least one fir

대표청구항

The invention claimed is: 1. A method of processing a film stack containing two or more metal-containing layers on a substrate in a substrate processing system, comprising: depositing a molybdenum layer to a thickness of about 100 Å to about 1500 Å on the substrate in a first physical v

이 특허에 인용된 특허 (22)

  1. Hashimoto Hiroshi,JPX ; Tateyama Kiyohisa,JPX ; Yamaguchi Kiyomitsu,JPX ; Matsuda Yoshitaka,JPX ; Uchihira Norio,JPX ; Sakai Mitsuhiro,JPX ; Satou Fumio,JPX, Apparatus and method for supplying process solution to surface of substrate to be processed.
  2. Voutsas, Apostolos; Nakata, Yukihiko, Apparatus to sputter silicon films.
  3. Larry Clevenger ; Roy C. Iggulden ; Rainer F. Schnabel DE; Stefan Weber, CVD/PVD/CVD/PVD fill process.
  4. Drummond Geoffrey N. ; Scholl Richard A., Enhanced reactive DC sputtering system.
  5. Liao Kuan-Yang,TWX, Fabricating method of a metal gate.
  6. Fox, Glen R.; Suu, KouKou, High temperature deposition of Pt/TiOx for bottom electrodes.
  7. Kouznetsov Vladimir,SEX, Method and apparatus for magnetically enhanced sputtering.
  8. Manley Barry W., Method and apparatus for periodic polarity reversal during an active state.
  9. Shimizu Junichi,JPX ; Watanabe Shujiro,JPX ; Takaki Satoru,JPX ; Osaki Hisashi,JPX ; Oyama Takuji,JPX ; Ando Eiichi,JPX, Method of an apparatus for sputtering.
  10. Voutsas Apostolos T. ; Hibino Yoshi, Method of making gate and source lines in TFT LCD panels using pure aluminum metal.
  11. Isao Akihiko,JPX ; Kawada Susumu,JPX ; Saito Yoshihiro,JPX ; Yamamoto Tsuneo,JPX ; Hayashi Atsushi,JPX ; Yoshioka Nobuyuki,JPX ; Chiba Akira,JPX ; Miyazaki Junji,JPX, Method of manufacturing phase-shifting photomask blank.
  12. Akram, Salman, Methods for making metallization structures for semiconductor device interconnects.
  13. Isao Akihiko (Saitama JPX) Kobayashi Ryoichi (Saitama JPX) Yoshioka Nobuyuki (Hyogo JPX) Watakabe Yaichiro (Hyogo JPX) Miyazaki Junji (Hyogo JPX), Phase shift mask and manufacturing method thereof and exposure method using phase shift mask.
  14. Isao, Akihiko; Kawada, Susumu; Kanai, Shuichiro; Yoshioka, Nobuyuki; Maetoko, Kazuyuki, Phase-shift photo mask blank, phase-shift photo mask and method for fabricating semiconductor devices.
  15. Isao Akihiko,JPX ; Kawada Susumu,JPX ; Yamamoto Tsuneo,JPX ; Amano Jun,JPX ; Kobayashi Ryoichi,JPX ; Yoshioka Nobuyuki,JPX, Phase-shifting photomask blank, phase-shifting photomask, method for producing them and apparatus for manufacturing the blank.
  16. Yoshioka, Nobuyuki; Isao, Akihiko; Kawada, Susumu; Yamamoto, Tsuneo; Amano, Jun; Kobayashi, Ryoichi, Phase-shifting photomask blank, phase-shifting photomask, method for producing them and apparatus for manufacturing the blank.
  17. Noboru Kuriyama JP; Yutaka Yatsu JP; Yoshio Kawamata JP; Takashi Fujii JP, Power supply unit for sputtering device.
  18. Scholl Richard A. ; Christie David J., Pulsed direct current power supply configurations for generating plasmas.
  19. Kim, Byung-Hee; Lee, Jong-Myeong; Lee, Myoung-Bum; Choi, Gil-Heyun, Semiconductor device fabrication method for filling high aspect ratio openings in insulators with aluminum.
  20. Obinata Hisaharu,JPX ; Kiyota Tetsuji,JPX ; Toyoda Satoru,JPX ; Kadokura Yoshiyuki,JPX, Sputtering apparatus for filling pores of a circular substrate.
  21. Sang-Ho Yu ; Yonghwa Chris Cha ; Murali Abburi ; Shri Singhvi ; Fufa Chen, Staged aluminum deposition process for filling vias.
  22. Miles,Mark W.; Gally,Brian J.; Chui,Clarence, Thin film precursor stack for MEMS manufacturing.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Erlat, Ahmet Gun; Dalakos, George Theodore; Scherer, Brian Joseph, Barrier coating with reduced process time.
  2. Olson, Michael L.; Dalebout, William T., Magnetic resistance mechanism in a cable machine.
  3. Ashby, Darren, Post workout massage device.
  4. Brammer, Chase, System and method for controlling an exercise device.
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