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Device for the coating of objects 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
  • C23F-001/00
  • H01L-021/306
  • H01L-021/02
출원번호 US-0486140 (2002-08-07)
등록번호 US-7434537 (2008-10-14)
우선권정보 DE-101 38 693(2001-08-07)
국제출원번호 PCT/EP02/008852 (2002-08-07)
§371/§102 date 20040813 (20040813)
국제공개번호 WO03/015122 (2003-02-20)
발명자 / 주소
  • Behle,Stephan
  • Bewig,Lars
  • K��pper,Thomas
  • Maring,Wolfram
  • M��lle,Christoph
  • Walther,Marten
출원인 / 주소
  • Schott AG
대리인 / 주소
    Ohlandt, Greeley, Ruggiero & Perle, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 12

초록

An apparatus for coating objects having a single microwave source, two or more coating chambers, and an impedance structure or a waveguide structure. The coating chambers are connected to the single microwave source. The impedance structure or waveguide structure divides the microwave energy in ord

대표청구항

The invention claimed is: 1. An apparatus for coating objects, comprising: a single microwave source; two or more coating chambers, the two or more coating chambers being connected to the single microwave source; a structure for dividing microwave energy from the single microwave source in order to

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Etzkorn Heinz-Werner (Neu-Ansbach DEX) Krmmel Harald (Mainz DEX) Weidmann Gnter (Armsheim DEX) Paquet Volker (Mainz DEX), Apparatus for coating cap-shaped substrates.
  2. Asmussen Jes (Okemos MI) Zhang Jie (East Lansing MI), Apparatus for the coating of material on a substrate using a microwave or UHF plasma.
  3. Buddie R. Dotter, II ; Joachim Doehler ; Timothy Ellison ; Masatsugo Izu ; Herbert C. Ovshinsky, Apparatus for the simultaneous deposition by physical vapor deposition and chemical vapor deposition and method therefor.
  4. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX), Electromagnetic wave measurement of conductive layers of a semiconductor wafer during processing in a fabrication chambe.
  5. Ito Toshimichi (Chiba JPX) Nosaka Masaaki (Chiba JPX) Hosoya Ikuo (Chiba JPX), Method for synthesis of diamond.
  6. Koike Hidemi (Katsuta JPX) Sakudo Noriyuki (Ome JPX) Tokiguchi Katsumi (Machida JPX) Seki Takayoshi (Hitachi JPX) Amemiya Kensuke (Katsuta JPX), Microwave ion source.
  7. Kanai Masahiro (Tokyo JPX), Microwave plasma chemical vapor deposition apparatus for continuously preparing semiconductor devices.
  8. Ishii Nobuo,JPX ; Shinohara Kibatsu,JPX, Microwave plasma processing apparatus using a hybrid microwave having two different modes of oscillation or branched mi.
  9. Houchin Ryuzoh (Osaka) Suzuki Naoki (Osaka JPX), Microwave plasma processor.
  10. Etzkorn Heinz W. (Neu Anspach DEX) Krmmel Harald (Mainz DEX) Paquet Volker (Mainz DEX) Weidmann Gnter (Armsheim DEX), Plasma CVD process for coating a dome-shaped substrate.
  11. Werner Stahlecker DE; Robert Frost DE, Process and system for evacuating a plasma sterilization reactor.
  12. Shates Steven C., Process for depositing diamond and refractory materials.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Parsons, Douglas; Jalbert, Peter, Microwave position sensing for a turbo machine.
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