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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0022248 (2004-12-22) |
등록번호 | US-7434590 (2008-10-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 204 |
An isolated semiconductor wafer platen is disclosed for use in high pressure processing. The use of vacuum chucking for holding a semiconductor wafer during processing is well known in the art and can be applied to high pressure systems as well, but some difficulties can arise under high pressure pr
What is claimed is: 1. A wafer holder for holding a semiconductor wafer by fluid pressure bias when processing the wafer in a processing chamber with a high pressure fluid, the wafer holder comprising: a platen disk having a backside, a frontside, and a wafer supporting surface on the frontside the
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