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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0147232 (2005-06-08) |
등록번호 | US-7435609 (2008-10-14) |
우선권정보 | JP-2001-164695(2001-05-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 13 |
There is disclosed a manufacturing method for exposure mask, which comprises acquiring a first information showing surface shape of surface of each of a plurality of mask substrates, and a second information showing the flatness of the surface of each of mask substrates before and after chucked on a
What is claimed is: 1. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: chucking an exposure mask having a pattern, which is manufactured by an exposure mask manufacturing method, on a mask stage of an exposure apparatus; illuminating the pattern of the exposure mask by a lighting opti
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