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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0826930 (2007-07-19) |
등록번호 | US-7443487 (2008-10-28) |
우선권정보 | JP-2006-198368(2006-07-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 4 |
The exposure apparatus includes: a light source which emits parallel light having a wavelength used for exposure; a photomask which includes a substrate, an optical shielding layer and an optical selective layer, the substrate being capable of transmitting the light of the wavelength, the optical sh
What is claimed is: 1. An exposure apparatus, comprising: a light source which emits parallel light having a wavelength used for exposure; a photomask which includes a substrate, an optical shielding layer and an optical selective layer, the substrate being capable of transmitting the light of the
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