최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0425682 (2006-06-21) |
등록번호 | US-7446041 (2008-11-04) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 218 |
A method and apparatus for electrochemically processing metal and barrier materials is provided. In one embodiment, a method for electrochemically processing a substrate includes the steps of establishing an electrically-conductive path through an electrolyte between an exposed layer of barrier mate
What is claimed is: 1. A method for electroprocessing a substrate, comprising: establishing an electrically-conductive path through an electrolyte between an exposed layer of barrier material on the substrate and an electrode; pressing the substrate against a processing pad assembly; providing moti
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.