검색연산자 | 기능 | 검색시 예 |
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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | C03B-037/07 C03B-037/00 |
미국특허분류(USC) | 065/377; 065/421; 065/435 |
출원번호 | US-0897784 (2004-07-23) |
등록번호 | US-7451623 (2008-11-18) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 8 |
A deposition system for depositing a chemical vapor onto a workpiece, including a deposition chamber having a plurality of components for performing chemical vapor deposition on the workpiece. The deposition chamber includes an inner skin made of Hasteloy for sealing the plurality of components and the workpiece from the air surrounding the deposition system, and an outer skin that encloses the inner skin and is separated from the inner skin by an air gap. The outer skin includes vents that create a convection current in the air gap between the inner ski...
What is claimed is: 1. A method of depositing silica particles onto a workpiece comprising the steps of: (a) obtaining a workpiece; (b) depositing silica particles on the workpiece; (c) translating the workpiece relative to the depositing of silica particles; wherein the translating step is performed by selectively translating the workpiece relative to the deposition at a rate greater than about 3.0 meters per minute; and (d) selectively causing a relative acceleration between an end of the workpiece and the deposition, the relative acceleration having ...