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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0768445 (2007-06-26) |
등록번호 | US-7473518 (2009-01-06) |
우선권정보 | JP-2002-261502(2002-09-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 4 |
A method of manufacturing a device includes the steps of (i) providing a near-field photomask including a light shield film for constituting a light shield portion and openings formed in the light shield film, wherein the openings include two or more parallel first slit openings lengthening in a fir
What is claimed is: 1. A method of manufacturing a device, said method comprising the steps of: (i) providing a near-field photomask comprising a light shield film for constituting a light shield portion and openings formed in the light shield film, wherein the openings comprise two or more paralle
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