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Immersion optical lithography system having protective optical coating 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/42
  • G03B-027/52
출원번호 US-0163007 (2005-09-30)
등록번호 US-7495743 (2009-02-24)
발명자 / 주소
  • Holmes,Steven J.
  • Furukawa,Toshiharu
  • Koburger, III,Charles W.
  • Moumen,Naim
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corporation
대리인 / 주소
    Li,Todd M. C.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 19

초록

An immersion lithography system is provided which includes an optical source operable to produce light having a nominal wavelength and an optical imaging system. The optical imaging system has an optical element in an optical path from the optical source to an article to be patterned thereby. The op

대표청구항

What is claimed is: 1. A method of forming an optical element of an immersion lithography system used to focus light from an optical source, the optical element having a face adapted to contact a liquid occupying a space between the face and an article to be patterned by the immersion lithography s

이 특허에 인용된 특허 (19)

  1. Dugger Cortland O. (Newton MA), Aluminum nitride single crystal growth from a molten mixture with calcium nitride.
  2. Schubert Erdmann (Stuttgart DEX) Ploog Klaus (Stuttgart DEX) Fischer Albrecht (Lchgau DEX), Bipolar transistor with monoatomic base layer between emitter and collector layers.
  3. Singh, Mandeep; Visser, Hugo M., Capping layer for EUV optical elements.
  4. Forbes, Leonard, DRAM cells with repressed floating gate memory, low tunnel barrier interpoly insulators.
  5. Wu Yao Hua (Evansville IN) Mueller Arthur Jacob (Evansville IN), Diuretic antiturombogenic and antiarrhythmic processes using N-substituted indole dimers and pyrrolobenzodia-zepine rear.
  6. Schmitt Jerome J. (New Haven CT) Halpern Bret L. (Bethany CT), Evaporation system and method for gas jet deposition of thin film materials.
  7. Rolland,Jason P.; DeSimone,Joseph P., Immersion lithography methods using carbon dioxide.
  8. Schubert Erdmann (Stuttgart DEX) Ploog Klaus (Stuttgart DEX) Fischer Albrecht (Lchgau DEX), Injection laser with at least one pair of monoatomic layers of doping atoms.
  9. Zang Jian-Zhi, Jet vapor deposition of nanocluster embedded thin films.
  10. Schmitt Jerome J. (265 College St. (12N) New Haven CT 06510), Method and apparatus for the deposition of solid films of a material from a jet stream entraining the gaseous phase of s.
  11. Schmitt ; III Jerome J. (New Haven CT) Halpern Bret L. (Bethany CT), Method for microwave plasma assisted supersonic gas jet deposition of thin films.
  12. Kim, Yeong-kwan; Park, Young-wook; Lim, Jae-soon; Choi, Sung-je; Lee, Sang-in, Method of forming thin film using atomic layer deposition method.
  13. McMillan Paul F. (Tempe AZ) Angell C. Austen (Mesa AZ) Grande Tor (Trondheim AZ NOX) Holloway John R. (Phoenix AZ), Methods of making nitride glasses.
  14. Schmitt ; III Jerome J. (New Haven CT) Halpern Bret L. (Bethany CT), Microwave plasma assisted supersonic gas jet deposition of thin film materials.
  15. Schubert Erdmann (Stuttgart DEX) Ploog Klaus (Stuttgart DEX) Fischer Albrecht (Lchgau DEX), Optically bistable semiconductor device with pairs of monoatomic layers separated by intrinsic layers.
  16. Sheng Terry T. (San Jose CA), Plasma immersion ion implantation (PI3) apparatus.
  17. Putkonen, Matti, Process for producing oxide thin films.
  18. Nakai, Junichi; Agoh, Fujio, Semiconductor device including interlayer lens.
  19. Schubert Erdmann (Stuttgart DEX) Ploog Klaus (Stuttgart DEX) Fischer Albrecht (Lchgau DEX), Semiconductor photodetector devices with pairs of monoatomic layers separated by intrinsic layers.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Holmes, Steven J.; Furukawa, Toshiharu; Koburger, III, Charles W.; Moumen, Naim, Immersion optical lithography system having protective optical coating.
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