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System and method for managing power supplied to a plasma chamber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01R-031/08
  • H01H-009/50
  • H01H-009/00
출원번호 UP-0531599 (2006-09-13)
등록번호 US-7514935 (2009-07-01)
발명자 / 주소
  • Pankratz, Joshua Brian
출원인 / 주소
  • Advanced Energy Industries, Inc.
인용정보 피인용 횟수 : 25  인용 특허 : 17

초록

A system and method for managing power delivered to a processing chamber is described. In one embodiment power is delivered to the processing chamber with a power cable, the power cable storing energy and including a first and second conductors, the first conductor having a first voltage polarity re

대표청구항

What is claimed is: 1. An apparatus comprising: a first and second output terminals; a power module configured to provide a voltage with a first polarity to the first and second output terminals, each of the first and second output terminals adapted to couple with a corresponding one of two conduct

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Ilic, Milan; Siddabattula, Kalyan N. C.; Malinin, Andrey B., Apparatus and method for fast arc extinction with early shunting of arc current in plasma.
  2. Sellers Jeff C. (Palmyra NY), Arc control and switching element protection for pulsed dc cathode sputtering power supply.
  3. Anderson Glen L. (2922 Amity Rd. Hilliard OH 43204) Hammond Peter W. (614 Courtview Dr. Greensburg PA 15601) Yotive David S. (11600 St. Rt. 736 Marysville OH 43040), Circuit for detecting and diverting an electrical arc in a glow discharge apparatus.
  4. Manley Barry W. (Boulder CO) Billings Keith H. (Guelph CAX), Circuit for reversing polarity on electrodes.
  5. Teschner Gtz (Gelnhausen DEX), Device for the suppression of arcs.
  6. Zahringer, Gerhard; Wiedfmuth, Peter; Rettich, Thomas, Electric supply unit for plasma installations.
  7. Maier Franz (Wettingen CHX), Electronic protective circuit.
  8. Drummond Geoffrey N. ; Scholl Richard A., Enhanced reactive DC sputtering system.
  9. Drummond Geoffrey N. ; Scholl Richard A., Enhanced reactive DC sputtering system.
  10. Drummond Geoffrey N. ; Scholl Richard A., Enhanced reactive DC sputtering system.
  11. Drummond Geoffrey N. (Fort Collins CO), Multi-phase DC plasma processing system.
  12. Sellers Jeff C. (Palmyra NY), Preferential sputtering of insulators from conductive targets.
  13. Goedicke, Klaus; Winkler, Torsten; Junghahnel, Michael; Handt, Karsten; Guldner, Henry; Wolf, Henrik; Eckholz, Frank, Process and switching arrangement for pulsing energy introduction into magnetron discharges.
  14. Walde, Hendrik; Kowal, Brian, Stored energy arc detection and arc reduction circuit.
  15. Drummond Geoffrey N. (Fort Collins CO), Thin film DC plasma processing system.
  16. Okano Manabu (Tokyo JPX), Topographically precise thin film coating system.
  17. Titus Charles H. (Newtown Square PA), .

이 특허를 인용한 특허 (25)

  1. Richter, Ulrich, Arc extinction arrangement and method for extinguishing arcs.
  2. Ilic, Milan, Arc recovery with over-voltage protection for plasma-chamber power supplies.
  3. Ilic, Milan; Shilo, Vladislav V.; Huff, Robert Brian, Arc recovery without over-voltage for plasma chamber power supplies using a shunt switch.
  4. Larson, Skip B.; Nauman, Jr., Kenneth E., Current threshold response mode for arc management.
  5. Larson, Skip B.; Nauman, Kenneth E., Current threshold response mode for arc management.
  6. Bhutta, Imran Ahmed, Electronically variable capacitor and RF matching network incorporating same.
  7. Bhutta, Imran Ahmed, High speed high voltage switching circuit.
  8. Bhutta, Imran, High voltage switching circuit.
  9. Ilic, Milan, Over-voltage protection during arc recovery for plasma-chamber power supplies.
  10. Bulliard, Albert; Fragniere, Benoit; Oehen, Joel, Power supply device for plasma processing.
  11. Bulliard, Albert; Fragniere, Benoit; Oehen, Joel, Power supply device for plasma processing.
  12. Bulliard, Albert; Fragniere, Benoit; Oehen, Joel; Cardou, Olivier, Power supply device for plasma processing.
  13. Bulliard, Albert; Fragnière, Benoit; Oehen, Joël, Power supply device for plasma processing.
  14. Bulliard, Albert; Fragnière, Benoit; Oehen, Joël; Cardou, Olivier, Power supply device for plasma processing.
  15. Morgan, Forrest; Frost, Daryl; Heine, Frank; Pelleymounter, Doug; Walde, Hendrik, Power supply ignition system and method.
  16. Larson, Skip B.; Nauman, Jr., Kenneth E.; Walde, Hendrik; McDonald, R. Mike, Proactive arc management of a plasma load.
  17. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  18. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  19. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  20. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  21. Mavretic, Anton, RF impedance matching network.
  22. Mavretic, Anton, RF impedance matching network.
  23. Mavretic, Anton, Switching circuit.
  24. Mavretic, Anton, Switching circuit.
  25. Mavretic, Anton, Switching circuit for RF currents.
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