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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0229555 (2005-09-20) |
등록번호 | US-7517217 (2009-07-01) |
우선권정보 | JP-2000-283407(2000-09-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 15 |
The present invention relates to a method for heat processing of a substrate having the step of baking a substrate, on which a coating film is formed, at a predetermined high temperature, comprising a first step of increasing the substrate from a predetermined low temperature to a predetermined inte
What is claimed is: 1. A heat processing apparatus for subjecting a substrate on which a coating film is formed to heat processing, comprising: a first heating plate for mounting a substrate thereon and heating the substrate to a first predetermined temperature lower than a reaction temperature of
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