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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0249668 (2005-10-13) |
등록번호 | US-7552855 (2009-07-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 9 |
A method of hole defect repair includes removing one or more defects at or near a desired hole shape in a substrate by removing a non-concentric portion of the substrate proximate the desired hole shape, and welding a filler material to the substrate after removing the non-concentric portion of the
The invention claimed is: 1. A method of hole defect repair, the method comprising: creating a substantially circular first opening in the substrate that is larger in diameter than 1 desired hole shape of existing through hole, wherein centerline axes of the desired hole shape and the first opening
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