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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0783755 (2007-04-12) |
등록번호 | US-7578910 (2009-09-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 41 |
Improved deep well grounding systems of the kind used for cathodic protection of ground installations according to the invention employ a combination of materials for the casing of the central metallic anode and the backfill in the well which exhibit a degree of permeability sufficient to allow by-p
We claim: 1. In a deep well grounding system of the kind including an anode lowered into a bore hole which is subsequently backfilled for cathodic protection, the improvement which comprises providing: (i) a metal conductive anode encased in a first conductive composition; and (ii) a backfill mater
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