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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0729266 (2003-12-03) |
등록번호 | US-7597046 (2009-10-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 8 |
A method of making a thin film explosive detonator includes forming a substrate layer; depositing a metal layer in situ on the substrate layer; and reacting the metal layer to form a primary explosive layer. The method and apparatus formed thereby integrates fabrication of a micro-detonator in a mon
What is claimed is: 1. A method of making a thin film explosive detonator, comprising: forming a substrate layer; depositing a metal layer of comprising a metal explosive cation in situ on the substrate layer; and reacting the metal layer comprising said metal explosive cation with a HN3 gas reacta
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