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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0864097 (2007-09-28) |
등록번호 | US-7605908 (2009-11-10) |
우선권정보 | JP-2006-272252(2006-10-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 9 |
A near-field exposure mask includes a light blocking film having an opening smaller than a wavelength of exposure light, and a mask base material for holding the light blocking film. The near-field exposure mask is configured and positioned to effect exposure of an object to be exposed to near-field
What is claimed is: 1. A near-field exposure mask comprising: a light blocking film having an opening smaller than a wavelength of exposure light; and a mask base material for holding said light blocking film, wherein said near-field exposure mask is configured and positioned to effect exposure of
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