[특허]High-purity ferromagnetic sputter targets and method of manufacture

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High-purity ferromagnetic sputter targets and method of manufacture 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-014/34
출원번호	UP-0637531 (2003-08-11)
등록번호	US-7608172 (2009-11-10)
발명자 / 주소	Perry, Andrew C. Koenigsmann, Holger J. Dombrowski, David E. Hunt, Thomas J.
출원인 / 주소	Praxair S.T. Technology, Inc.
대리인 / 주소	Schwartz, Iurie A.
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 13

초록 ▼

The method manufactures high-purity ferromagnetic sputter targets by cryogenic working the sputter target blank at a temperature below at least-50° C. to impart at least about 5 percent strain into the sputter target blank to increase PTF uniformity of the target blank. The sputter target blank is a nonferrous metal selected from the group consisting of cobalt and nickel; and the nonferrous metal has a purity of at least about 99.99 weight percent. Finally, fabricating the sputter target blank forms a sputter target having an improved PTF uniformity arising from the cryogenic working.

대표청구항 ▼

We claim: 1. A high-purity nonferrous sputter target, the nonferrous sputter target having a sputter source selected from the group consisting of cobalt, the sputter source having a top surface for sputtering metal atoms onto a substrate, a side edge, a purity of at least about 99.99 weight percent, a single phase crystallographic structure, and a uniform PTF, the PTF uniformity being less than about 3.5 percent of the average PTF for the formula: where n is the number of measurements at different locations, n is at least 8, and x is the PTF measurement at each location 5 cm from the side edge, wherein the nonferrous metal sputter target deposits a film having a sheet resistance Rs uniformity of less than 1.0 percent. 2. The sputter target of claim 1 wherein the metal sputter source is cobalt having a permeability between about 4 and 8 as measured parallel to the top surface of the metal sputter source and a permeability between about 9 and 12 as measured perpendicular to the top target surface of the metal sputter source. 3. The sputter target of claim 1 wherein the metal sputter source is cobalt and the PTF uniformity is less than about 3 percent of the average PTF.

이 특허에 인용된 특허 (13)

Hunt Thomas J. ; Gilman Paul S. ; Joyce James E. ; Lo Chi-Fung ; Draper Darryl, Cryogenic annealing of sputtering targets.
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Selines Ronald J. (Yorktown Heights NY) Van den Sype Jaak S. (Scarsdale NY), Cryogenic forming.
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Xiong Wei ; Hoo Hung-Lee ; McDonald Peter, High magnetic flux sputter targets with varied magnetic permeability in selected regions.
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Robert S. Cole ; Mathew S. Cooper ; Stephen P. Turner ; Yinshi Liu ; Michael McCarty ; Rodney L. Scagline, High purity cobalt sputter target and process of manufacturing the same.
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Shindo Yuichiro,JPX ; Suzuki Tsuneo,JPX, High purity cobalt sputtering targets.
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Lo Chi-Fung ; Draper Darryl, Method for fabricating randomly oriented aluminum alloy sputtering targets with fine grains and fine precipitates.
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Lo Chi-Fung ; Draper Darryl, Method for fabricating randomly oriented aluminum alloy sputting targets with fine grains and fine precipitates.
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Zhu Yuntian T. ; Lowe Terry C. ; Jiang Honggang ; Huang Jianyu, Method for producing ultrafine-grained materials using repetitive corrugation and straightening.
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Abbaschian Gholamreza J. (Gainesville FL) Abeln Stephen (Arvada CO), Method of making aluminum-lithium alloys with improved ductility.
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Snowman Alfred ; Koenigsmann Holger ; Desert Andre ; Hunt Thomas J., Method of making low magnetic permeability cobalt sputter targets.
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Bartholomeusz, Michael; Tsai, Michael, Stretching of magnetic materials to increase pass-through-flux (PTF).
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Abburi, Murali; Ramaswami, Seshadri, Target for use in magnetron sputtering of nickel for forming metallization films having consistent uniformity through life.
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Liu Yinshi, Titanium sputtering target.
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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