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System and method for flow monitoring and control

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G06F-019/00
출원번호 UP-0229912 (2005-09-19)
등록번호 US-7610117 (2009-11-10)
발명자 / 주소
  • Brodeur, Craig L.
  • Laverdiere, Marc
  • McLoughlin, Robert F.
  • Niermeyer, J. Karl
  • Shyu, Jieh Hwa
출원인 / 주소
  • Entegris, Inc.
대리인 / 주소
    Sprinkle IP Law Group
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 25

초록

One embodiment of the present invention can include a flow control device comprising an inlet, an outlet, a pressure loss element between the inlet and outlet, a pressure sensor located upstream from the constriction configured to measure a first pressure of a fluid flowing through the flow control

대표청구항

What is claimed is: 1. A flow control device adapted for use in semiconductor manufacturing comprising: an inlet to receive a semiconductor manufacturing process fluid; an outlet in fluid communication with the inlet; a pressure loss element between the inlet and the outlet, wherein the inner diame

이 특허에 인용된 특허 (25)

  1. Grice, Steven; Ivie, Cameron, Anti-reverse bail control.
  2. Sabini, Eugene P.; Lorenc, Jerome A.; Henyan, Oakley, Apparatus and method for controlling a pump system.
  3. Hinkle Luke D. (Townsend MA), Apparatus for mass flow measurement of a gas.
  4. Wiklund, David E.; Krouth, Terrance F.; Broden, David A.; Schumacher, Mark S., Bi-directional differential pressure flow sensor.
  5. Bussear Terry R. ; Weightman Bruce,GBX ; Aeschbacher ; Jr. William E. ; Krejci Michael F. ; Rothers David ; Jones Kevin, Computer controlled downhole tools for production well control.
  6. Berry, Michael R.; Bangash, Yasser Khan, Electric submersible pump assembly.
  7. Bearden John L. ; Harrell John W. ; Rider Jerald R. ; Besser Gordon L. ; Johnson Michael H. ; Tubel Paulo S. ; Watkins Larry A. ; Turick Daniel J. ; Donovan Joseph F. ; Henry J. V. ; Knox Dick L., Electrical submersible pump and methods for enhanced utilization of electrical submersible pumps in the completion and production of wellbores.
  8. Balazy Richard D. ; Cowan Cathy L. ; Eisenmann Mark R. ; Frink Kenneth E. ; Kulha Edward, Fluid flow controlling.
  9. Ohmi Tadahiro,JPX ; Kagatsume Satoshi,JPX ; Hirose Jun,JPX ; Nishino Kouji,JPX, Fluid-switchable flow rate control system.
  10. Kotwicki, Allan Joseph, Gas flow measurement.
  11. Thordarson Petur, High pressure regulated flow controller.
  12. Lucas, Jr.,James L.; Simo,Donald M., Manifold system and method for compressed medical gases.
  13. Lowery, Patrick A.; Thordarson, Petur; Laragione, Robert, Mass flow meter systems and methods.
  14. Bump Scott S. ; Campbell Gary P. ; Dille Joseph C. ; White William W., Method and apparatus for detecting and controlling mass flow.
  15. Mack, Robert, Method and apparatus to test a shutdown device while process continues to operate.
  16. Winchcomb John,GBX ; Hogstrom Karl-Kristian,FIX, Method and device for verifying the workability of a safety device.
  17. Yanagawa Hidehiro (Tokyo JPX) Nishiuchi Hiroyuki (Tokyo JPX) Shimada Masakazu (Tokyo JPX) Hirano Mitsuhiro (Tokyo JPX) Taniyama Tomoshi (Tokyo JPX) Nikaido Kazumi (Tokyo JPX) Hisajima Yoshikazu (Toky, Method for supplying and discharging gas to and from semiconductor manufacturing equipment and system for executing the.
  18. Brown Timothy R., Method for wide range gas flow system with real time flow measurement and correction.
  19. Lull,John Michael; Wang,Chiun; Saggio, Jr.,Joseph A., Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller.
  20. Yamashita Shigeru,JPX, Multiple valve apparatus.
  21. Cheng,Shiyuan (Denny), Pendulum valve with a full range of position control.
  22. Paul R. Adams ; David E. Woollums ; Jon B. Milliken ; Richard J. Vanderah ; Stephanie M. Law, Regulator diagnostics system and method.
  23. Brodeur, Craig L..; Laverdiere, Marc; McLoughlin, Robert F.; Niermeyer, J. Karl; Shyu, Jieh-Hwa, System and method for flow monitoring and control.
  24. Narvaez, Diego, Technique for facilitating the pumping of fluids by lowering fluid viscosity.
  25. Petur Thordarson ; Patrick A. Lowery, Variable pressure regulated flow controllers.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Taskar, Mark; Shareef, Iqbal, Cluster mass flow devices and multi-line mass flow devices incorporating the same.
  2. Yoneda, Yutaka; Takahashi, Akito, Mass flow controller.
  3. Igarashi, Hiroki, Pressure sensor, pressure-differential flow rate meter, and flow rate controller.
  4. Brodeur, Craig L.; Laverdiere, Marc; McLoughlin, Robert F.; Niermeyer, J. Karl; Shyu, Jieh-Hwa, System and method for flow monitoring and control.
  5. Brodeur, Craig L.; Laverdiere, Marc; McLoughlin, Robert F.; Niermeyer, J. Karl; Shyu, Jieh-Hwa, System and method for flow monitoring and control.
  6. Mous, Frans; De Jonge, Sander, Water appliance having a flow control unit and a filter assembly.
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