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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0270563 (2005-11-10) |
등록번호 | US-7641382 (2010-02-11) |
우선권정보 | JP-2000-131772(2000-04-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 25 |
In a deposited-film formation apparatus or process having the means or steps of evacuating the inside of an inside-evacuatable chamber through an evacuation piping by an evacuation means, feeding a material gas into the chamber while evacuating the inside of the chamber, and applying a high-frequenc
What is claimed is: 1. Method of detecting the occurrence of a leak due to the entry of external air to the interior of a chamber or piping comprising the steps of: forming a deposited film from reactive gas in a deposited film-forming apparatus which includes a vacuum pump mounted in an evacuation
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