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Leak judgment method, and computer-readable recording medium with recorded leak-judgment-executable program 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-025/72
  • G01K-013/02
  • G01K-001/00
  • G01M-003/02
출원번호 UP-0270563 (2005-11-10)
등록번호 US-7641382 (2010-02-11)
우선권정보 JP-2000-131772(2000-04-28)
발명자 / 주소
  • Izawa, Hiroshi
  • Echizen, Hiroshi
  • Ohtoshi, Hirokazu
  • Tanaka, Masatoshi
출원인 / 주소
  • Canon Kabushiki Kaisha
대리인 / 주소
    Fitzpatrick, Cella, Harper & Scinto
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 25

초록

In a deposited-film formation apparatus or process having the means or steps of evacuating the inside of an inside-evacuatable chamber through an evacuation piping by an evacuation means, feeding a material gas into the chamber while evacuating the inside of the chamber, and applying a high-frequenc

대표청구항

What is claimed is: 1. Method of detecting the occurrence of a leak due to the entry of external air to the interior of a chamber or piping comprising the steps of: forming a deposited film from reactive gas in a deposited film-forming apparatus which includes a vacuum pump mounted in an evacuation

이 특허에 인용된 특허 (25)

  1. Otoshi, Hirokazu; Izawa, Hiroshi; Tanaka, Masatoshi, Apparatus and method for forming deposited film.
  2. Otoshi,Hirokazu; Izawa,Hiroshi; Tanaka,Masatoshi, Apparatus and method for forming deposited film.
  3. Hasselmann Detlev E. M. (519 S. Nardo Ave. Solana Beach CA 92075), Apparatus and method for measurement of average temperature change in a storage tank.
  4. Moriyama, Koichiro; Kanai, Masahiro; Ohtoshi, Hirokazu; Hori, Tadashi; Okada, Naoto; Shimoda, Hiroshi; Ozaki, Hiroyuki, Apparatus and method for processing a substrate.
  5. Kyrtsos Christos, Axle temperature monitor.
  6. Yoshida Kohei,JPX ; Echizen Hiroshi,JPX ; Kanai Masahiro,JPX ; Ohtoshi Hirokazu,JPX ; Yoshino Takehito,JPX ; Tanaka Masatoshi,JPX, Deposited film forming apparatus.
  7. Jiaxiang Zhou, Diagnosis process of vacuum failure in a vacuum chamber.
  8. Yoshino Takehito,JPX ; Echizen Hiroshi,JPX ; Kanai Masahiro,JPX ; Otoshi Hirokazu,JPX ; Yasuno Atsushi,JPX ; Yoshida Kohei,JPX ; Moriyama Koichiro,JPX ; Tanaka Masatoshi,JPX, Film forming apparatus.
  9. Tibor Farkas ; Brian Byungkyu Kim ; Bich Ngoc Nguyen, Fluid leakage detector for vacuum applications.
  10. Gates Donald C. (Troy MI), Fuel tank leak detection apparatus.
  11. Liu, Yung Nan; Tsou, Cheng Kuo; Lee, Yuh Ju; Hsieh, Ching Cheng, Leakage detecting method for use in oxidizing system of forming oxide layer.
  12. Brooks Wahner E. (2855 S. Madison Ave. Yuma AZ 85364), Liquid container leakage detection method and system.
  13. Inomata Juro (Mizusawa JPX) Nakamura Masaru (Kitakami JPX), Method and device for analyzing gas in process chamber.
  14. Veth George J. (Fairfield CO), Method and system for measuring rate of occurrence of a physiological parameter.
  15. Weling Milind (San Jose CA) Gabriel Calvin T. (Cupertino CA) Jain Vivek (Milpitas CA) Pramanik Dipankar (Cupertino CA), Method for leak detection in etching chambers.
  16. Carlsen Kurt A. ; McManus James ; Dietz James, Method of and system for sub-atmospheric gas delivery with backflow control.
  17. Fujita Yoshiyuki,JPX ; Hirai Jun,JPX ; Iitaka Azusa,JPX ; Tamura Tatsuya,JPX, Method of cleaning film forming apparatus, cleaning system for carrying out the same and film forming system.
  18. Cook,John E.; Perry,Paul D., Temperature correction method and subsystem for automotive evaporative leak detection systems.
  19. Hesky Michael,DEX, Temperature measuring and monitoring.
  20. Emery Franklin T. (Orlando FL) Craig William G. (Casselberry FL) Murphy Franklin J. (Oviedo FL), Temperature monitoring system for an electric generator.
  21. Takashi Nakamura JP, Thermal treatment furnace having gas leakage preventing function.
  22. Taniyama Tomoshi (Tokyo JPX) Kaihotsu Hideki (Tokyo JPX) Kanamori Yoshikatsu (Tokyo JPX) Ikeda Kazuhito (Tokyo JPX) Yonemitsu Shuji (Tokyo JPX), Thermal treatment furnace in a system for manufacturing semiconductors.
  23. Edwards ; Jr. David (7 Brown\s La. Bellport NY 11713), Vacuum leak detector and method.
  24. Kazuyoshi Akiyama JP, Vacuum processing apparatus and vacuum processing method.
  25. Koyama Mitsutoshi (Tokyo JPX) Takahashi Koichi (Kawasaki JPX) Sonobe Hironori (Tokyo JPX), Vertical heat-treatment apparatus for semiconductor parts.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Sasaki, Toru, Apparatus and method for leak testing.
  2. Kwon, Won Joo, Device for detecting abnormality in refrigeration cycle of refrigerator and method therefor.
  3. Deng, Hao; Wu, Gangqiang, Temperature indication pipe joint.
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