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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0421793 (2006-06-02) |
등록번호 | US-7665951 (2010-04-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 167 |
Embodiments of the invention include a load lock chamber, a processing system having a load lock chamber and a method for transferring substrates between atmospheric and vacuum environments. In one embodiment, the method includes maintaining a processed substrate within a transfer cavity formed in a
What is claimed is: 1. A method for transferring substrates between an atmospheric environment and a vacuum environment, comprising: transferring a first unprocessed substrate from an atmospheric environment onto a first substrate support disposed in a first substrate transfer cavity formed in a lo
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