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Process and apparatus for organic vapor jet deposition 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 UP-0168532 (2008-07-07)
등록번호 US-7682660 (2010-04-21)
발명자 / 주소
  • Shtein, Max
  • Forrest, Stephen R.
출원인 / 주소
  • The Trustees of Princeton University
대리인 / 주소
    Townsend and Townsend and Crew LLP
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 23

초록

A method of fabricating an organic film is provided. A non-reactive carrier gas is used to transport an organic vapor. The organic vapor is ejected through a nozzle block onto a cooled substrate, to form a patterned organic film. A device for carrying out the method is also provided. The device incl

대표청구항

What is claimed is: 1. A method of depositing an organic film, comprising: providing a heated non-reactive carrier gas transporting an organic vapor; and ejecting the heated non-reactive carrier gas transporting an organic vapor through a nozzle block with a bulk flow velocity at least as great as

이 특허에 인용된 특허 (23)

  1. Jolly Stuart Talbot (Yardley PA), Accurate control during vapor phase epitaxy.
  2. Powell Ricky C. ; Dorer Gary L. ; Reiter Nicholas A. ; McMaster Harold A. ; Cox Steven M. ; Kahle Terence D., Apparatus and method for depositing a semiconductor material.
  3. Schmitt Jerome J. (New Haven CT) Halpern Bret L. (Bethany CT), Evaporation system and method for gas jet deposition of thin film materials.
  4. Bergamini Lorenzo,ITX, Gas mass flow metering valve.
  5. Nguyen, Tue; Bercaw, Craig Alan, Integrated precursor delivery system.
  6. Zang Jian-Zhi, Jet vapor deposition of nanocluster embedded thin films.
  7. Halpern Bret, Jet vapor deposition of organic molecule guest-inorganic host thin films.
  8. Halpern Bret (Bethany CT), Jet vapor deposition of organic molecule guest-inorganic host thin films.
  9. Hasegawa Toshiaki (Kanagawa JPX), Low pressure CVD apparatus comprising gas distribution collimator.
  10. Stephen R. Forrest ; Paul E. Burrows ; Vladimir S. Ban, Low pressure vapor phase deposition of organic thin films.
  11. Kenji Matsumoto JP; Hiroshi Shinriki JP, Metal organic chemical vapor deposition method and apparatus.
  12. Schmitt Jerome J. (265 College St. (12N) New Haven CT 06510), Method and apparatus for the deposition of solid films of a material from a jet stream entraining the gaseous phase of s.
  13. Forrest Stephen R. (Princeton NJ) Ban Vladimir S. (Princeton NJ) Burrows Paul E. (Princeton NJ) Schwartz Jeffrey (Princeton NJ), Method and apparatus using organic vapor phase deposition for the growth of organic thin films with large optical non-li.
  14. J?rgensen, Holger; Strauch, Gerhard Karl; Schwambera, Markus, Method and device for depositing in particular organic layers using organic vapor phase deposition.
  15. Halpern Bret ; Graves Raymond F., Method for hydrogen atom assisted jet vapor deposition for parylene N and other polymeric thin films.
  16. Tang Ching W. ; Pan Kee-Chuan, Methods of making a full-color organic light-emitting display.
  17. Schmitt ; III Jerome J. (New Haven CT) Halpern Bret L. (Bethany CT), Microwave plasma assisted supersonic gas jet deposition of thin film materials.
  18. Forrest Stephen Ross ; Thompson Mark Edward ; Burrows Paul Edward ; Sapochak Linda Susan ; McCarty Dennis Matthew, Multicolor organic light emitting devices.
  19. Burrows Paul ; Forrest Stephen R. ; Thompson Mark E., Red-emitting organic light emitting devices (OLED's).
  20. Swanson, Leland S., Selective deposition of emissive layer in electroluminescent displays.
  21. Shtein, Max; Forrest, Stephen R., Self-aligned hybrid deposition.
  22. Fujikawa Yuichiro (Yamanashi-ken JPX) Hatano Tatsuo (Yamanashi-ken JPX) Murakami Seishi (Yamanashi-ken JPX), Shower head and film forming apparatus using the same.
  23. Sajoto Talex ; Selyutin Leonid ; Zhao Jun ; Dornfest Charles, Temperature controlled gas feedthrough.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Deus, Carsten; Richter, Joerk; Seifert, Ruben; Gottsmann, Lutz, Method for the production of an organic light emitting illuminant.
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