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Gallium oxide-zinc oxide sputtering target, method of forming transparent conductive film, and transparent conductive film

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01B-001/08
  • H01B-005/14
  • B05D-005/12
  • C23C-014/34
  • G02B-001/10
  • G02F-001/1343
출원번호 UP-0994025 (2006-05-30)
등록번호 US-7686985 (2010-04-23)
우선권정보 JP-2005-187554(2005-06-28); JP-2005-313219(2005-10-27)
국제출원번호 PCT/JP2006/310734 (2006-05-30)
§371/§102 date 20071227 (20071227)
국제공개번호 WO07/000867 (2007-01-04)
발명자 / 주소
  • Osada, Kozo
출원인 / 주소
  • Nippon Mining & Metals Co., Ltd
대리인 / 주소
    Howson & Howson LLP
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 6

초록

Provided is a high density gallium oxide-zinc oxide series sintered body sputtering target for forming a transparent conductive film containing 20 to 500 mass ppm of aluminum oxide. In a gallium oxide (Ga2O3)-zinc oxide (ZnO) series sputtering target (GZO series target) for forming a transparent con

대표청구항

The invention claimed is: 1. A gallium oxide-zinc oxide series sintered body sputtering target containing 20 to 500 mass ppm of aluminum oxide and having a sintered density of 5.55 g/cm3 or higher. 2. The gallium oxide-zinc oxide series sintered body sputtering target according to claim 1, contai

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Suzuki,Ryo, Electroconductive oxide sintered compact, sputtering target comprising the sintered compact and methods for producing them.
  2. Kuwano, Katsuo; Takami, Hideo, Optical transparent film and sputtering target for forming optical transparent film.
  3. Suzuki, Ryo, Oxide sintered body and manufacturing method thereof.
  4. Yahagi,Masataka; Takami,Hideo, Sputtering target containing zinc sulfide as major component, optical recording medium on which phase change optical disk protective film containing zinc sulfide as major component is formed by using the target, and method for manufacturing the sputtering target.
  5. Yamamoto, Tetsuya; Nakahara, Ken, Transparent conductive film of zinc oxide.
  6. Hagiwara Masahiro (Omiya JPX) Nishihara Akira (Omiya JPX), Zinc oxide powder having high dispersibility.

이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Nakayama, Tokuyuki; Abe, Yoshiyuki, Oxide sintered body, target, transparent conductive film obtained by using the same, and transparent conductive substrate.
  2. Nakayama, Tokuyuki; Abe, Yoshiyuki, Oxide sintered body, target, transparent conductive film obtained by using the same, and transparent conductive substrate.
  3. Yamaguchi, Yohei; Kakuta, Koji, Oxide sintered compact and sputtering target formed from said oxide sintered compact.
  4. Yamaguchi, Yohei; Kurihara, Toshiya; Kakuta, Koji, Oxide sintered compact and sputtering target formed from said oxide sintered compact.
  5. Ikisawa, Masakatsu; Yahagi, Masataka; Osada, Kozo; Kakeno, Takashi; Takami, Hideo, Oxide sintered compact, its production method, and raw material powder for producing oxide sintered compact.
  6. Nara, Atsushi; Seki, Hideto, Oxide sintered compact, oxide sputtering target, and oxide thin film.
  7. Osada, Kozo; Ohtsuka, Hiroaki, Sintered oxide compact target for sputtering and process for producing the same.
  8. Miao, Weiguo; Zink, Nathan Michael, Translucent alumina filaments and tape cast methods for making.
  9. Ikisawa, Masakatsu; Yahagi, Masataka, Zinc oxide based transparent electric conductor, sputtering target for forming of the conductor and process for producing the target.
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