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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0529891 (2004-06-25) |
등록번호 | US-7691540 (2010-05-20) |
우선권정보 | JP-2003-182041(2003-06-26); JP-2004-097699(2004-03-30) |
국제출원번호 | PCT/JP2004/009375 (2004-06-25) |
§371/§102 date | 20050726 (20050726) |
국제공개번호 | WO05/001569 (2005-01-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 8 |
A method of designing an exposure mask for exposing an image forming layer provided on a substrate, by use of near field light leaking from adjoining openings formed in a light blocking member. The method includes determining a width D of the openings and an opening interval of the openings to be fo
The invention claimed is: 1. A method of designing an exposure mask with a light blocking member for exposing an image forming layer provided on a substrate to near field light leaking from adjoining openings formed in the light blocking member, the method comprising: determining a width D of the o
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