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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0235184 (2002-09-04) |
등록번호 | US-7694650 (2010-05-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 4 |
An exhaust monitoring cup which measures exhaust gas flowing through a top opening in a coater cup of a spin coating apparatus used in the deposition of photoresist coatings on semiconductor wafers. The exhaust monitoring cup includes a gas flow cup which is positioned in fluid communication with th
What is claimed is: 1. A spin coating apparatus for coating a semiconductor wafer substrate with a photoresist, said spin coating apparatus adapted to measure a flow rate of a gas during a spin coating process, said spin coating apparatus comprising: a spin coating apparatus cup disposed to surroun
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