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Electrically programmable reticle and system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02F-001/15
  • G02F-001/153
  • G09G-003/38
출원번호 UP-0696862 (2007-04-05)
등록번호 US-7724416 (2010-06-14)
발명자 / 주소
  • Miller, Keith Randolph
출원인 / 주소
  • Advanced Micro Devices, Inc.
대리인 / 주소
    Meyertons, Hood, Kivlin, Kowert & Goetzel, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 9

초록

An electrically programmable reticle is made using at least one electrochromatic layer that changes its optical transmissibility in response to applied voltages. Transparent conductor layers are configured to the desired patterns. The electrically programmable reticles are either patterned in contin

대표청구항

What is claimed is: 1. An electrically programmable reticle comprising: an electrochromatic layer having a substantially reflective area and a substantially opaque area, wherein said substantially reflective area is in response to a first electric field, and further wherein said substantially opaqu

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Bobroff Norman (Katonah NY) Rosenbluth Alan E. (Yorktown Heights NY), Ablation mask and use thereof.
  2. Hemar,Shirley; Goldenshtein,Alex; Greenberg,Gadi; Friedman,Mula; Kenan,Boaz, Alternating phase-shift mask inspection method and apparatus.
  3. Pizzarello Frank A. (Yorba Linda CA), Electrochromic nonvolatile memory device.
  4. Ceglio Natale M. (Livermore CA) Markle David A. (Saratoga CA), Maskless, reticle-free, lithography.
  5. Vincent,Kent D.; Zhang,Xiao An; Williams,R. Stanley, Molecular light valve display having sequenced color illumination.
  6. Phan, Khoi A.; Singh, Bhanwar; Rangarajan, Bharath, Reticle defect printability verification by resist latent image comparison.
  7. Benson David K. (Golden CO) Crandall Richard S. (Boulder CO) Deb Satyendra K. (Boulder CO) Stone Jack L. (Lakewood CO), Stand-alone photovoltaic (PV) powered electrochromic window.
  8. Yaniv, Zvi, Switchable transparent screens for image projection system.
  9. Choi, Sang Ho, Viewing-angle controllable color filter substrate, liquid crystal display having the same, and manufacturing method thereof.

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Sammut, Dennis J., Apparatus and method for aiming point calculation.
  2. Sammut, Dennis J., Apparatus and method for aiming point calculation.
  3. Sammut, Dennis J., Apparatus and method for aiming point calculation.
  4. Sammut, Dennis J.; Chao, Lawrence, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  5. Sammut, Dennis J.; Chao, Lawrence, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  6. Sammut, Dennis J.; Chao, Lawrence, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  7. Sammut, Dennis J.; Chao, Lawrence, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  8. Sammut, Dennis J.; Chao, Lawrence, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  9. Sammut, Dennis J.; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  10. Sammut, Dennis J.; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  11. Sammut, Dennis J.; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  12. Sammut, Dennis J.; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  13. Sammut, Dennis J.; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  14. Sammut, Dennis; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  15. Sammut, Dennis; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  16. Sammut, Dennis; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  17. Sammut, Dennis; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  18. Sammut, Dennis; Hodnett, Todd, Apparatus and method for calculating aiming point information.
  19. Egerton, Peter; Gaskell, Drew, Multi-pane dynamic window and method for making same.
  20. Egerton, Peter; Gaskell, Drew, Multi-pane dynamic window and method for making same.
  21. Menon, Rajesh, Programmable photolithography.
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