[특허]Quartz cover for manufacturing semiconductor wafers

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	13-03
출원번호	UP-0342844 (2009-09-02)
등록번호	US-D616390 (2010-06-14)
우선권정보	JP-2009-004982(2009-03-06)
발명자 / 주소	Sato, Izumi
출원인 / 주소	Tokyo Electron Limited
대리인 / 주소	Burr & Brown
인용정보	피인용 횟수 : 18 인용 특허 : 6

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

CLAIM The ornamental design for a quartz cover for manufacturing semiconductor wafers, as shown and described.

이 특허에 인용된 특허 (6)

Yu Chih Huang TW; Cherng Chang Tsuei TW; I Chang Wu TW, Apparatus and method for reducing particle contamination in an etcher.
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Irie, Shinji; Sakai, Hirofumi, Boat for heat treatment and vertical heat treatment equipment.
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Kimura Norifumi,JPX, Cap for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.
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Yamashita,Jun, Cover for a heater stage of a plasma processing apparatus.
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Shimazu Tomohisa,JPX, Vertical heat treatment apparatus.
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Miller Michael B. (DeSoto TX), Wafer holding fixture for chemical reaction processes in rapid thermal processing equipment and method for making same.
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이 특허를 인용한 특허 (18)

Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi; Nabeya, Osamu; Watanabe, Katsuhide; Namiki, Keisuke, Elastic membrane for semiconductor wafer polishing.
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Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi; Nabeya, Osamu; Watanabe, Katsuhide; Namiki, Keisuke, Elastic membrane for semiconductor wafer polishing.
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Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi; Namiki, Keisuke; Nabeya, Osamu; Togashi, Shingo; Yamaki, Satoru, Elastic membrane for semiconductor wafer polishing apparatus.
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Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi; Namiki, Keisuke; Nabeya, Osamu; Togashi, Shingo; Yamaki, Satoru, Elastic membrane for semiconductor wafer polishing apparatus.
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Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi; Namiki, Keisuke; Nabeya, Osamu; Togashi, Shingo; Yamaki, Satoru, Elastic membrane for semiconductor wafer polishing apparatus.
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Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi; Namiki, Keisuke; Nabeya, Osamu; Togashi, Shingo; Yamaki, Satoru, Elastic membrane for semiconductor wafer polishing apparatus.
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Suzuki, Kouki; Toriya, Daisuke; Yamazaki, Koichi, Liner for plasma processing apparatus.
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Suzuki, Kouki; Yamashita, Jun; Ban, Masakazu; Ueda, Atsushi, Liner for plasma processing apparatus.
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Suzuki, Kouki; Yamashita, Jun; Ban, Masakazu; Ueda, Atsushi, Liner for plasma processing apparatus.
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Pliner, Alexander; Voishvillo, Alexander, Loudspeaker heat sink.
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Jang, Hyun Soo; Lee, Jeong Ho; Kim, Young Hoon, Outer wall of reactor for semiconductor manufacturing apparatus.
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Hanson, Ryan; Ge, Zhenbin; Gupta, Vivek, Target profile for a physical vapor deposition chamber target.
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Hanson, Ryan; Ge, Zhenbin; Gupta, Vivek, Target profile for a physical vapor deposition chamber target.
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Riker, Martin Lee; Zhang, Fuhong; Liu, Yu, Target profile for a physical vapor deposition chamber target.
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Riker, Martin Lee; Zhang, Fuhong; Liu, Yu, Target profile for a physical vapor deposition chamber target.
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Riker, Martin Lee; Zhang, Fuhong; Wang, Xiaodong, Target profile for a physical vapor deposition chamber target.
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Zhang, Fuhong; Johanson, William; Liu, Yu; Allen, Adolph Miller; Datta, Brij; Miller, Keith A., Target profile for a physical vapor deposition chamber target.
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Zhang, Fuhong; Johanson, William; Liu, Yu; Allen, Adolph Miller; Datta, Brij; Miller, Keith A., Target profile for a physical vapor deposition chamber target.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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