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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0758958 (2007-06-06) |
등록번호 | US-7732121 (2010-06-29) |
우선권정보 | JP-2006-158012(2006-06-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 7 |
A near-field exposure method includes closely contacting an exposure mask having a light blocking film with small openings, to a photoresist layer formed on a substrate having surface unevenness, and projecting the exposure light of the exposure light source onto the exposure mask so that the photor
What is claimed is: 1. A near-field exposure method, comprising: providing an exposure mask having (i) a blocking film with small openings formed on a supporting material and (ii) a photoresist layer, formed on a substrate, having surface unevenness that ranges from 10 nm to 1 μm in height of
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