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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0263253 (2008-10-31) |
등록번호 | US-7741144 (2010-07-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 127 |
Embodiments of the present invention include an improved method of forming a thin film solar cell device using a plasma processing treatment between two or more deposition steps. Embodiments of the invention also generally provide a method and apparatus for forming the same. The present invention ma
The invention claimed is: 1. A method of forming a thin film solar cell, comprising: transferring a substrate into a plasma enhanced chemical vapor deposition chamber; depositing an n-doped amorphous silicon layer over the substrate; providing a plasma treatment to the n-doped amorphous silicon lay
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