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Suppressor of hollow cathode discharge in a shower head fluid distribution system

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/3065
  • C23C-016/455
  • C23C-016/505
  • B21K-021/08
출원번호 UP-0951861 (2007-12-06)
등록번호 US-7744720 (2010-07-19)
발명자 / 주소
  • Chen, Lee
  • Xu, Lin
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 2

초록

A chamber component configured to be coupled to a process chamber and a method of fabricating the chamber component is described. The chamber component comprises a chamber element comprising a first surface on a supply side of the chamber element and a second surface on a process side of the chamber

대표청구항

What is claimed is: 1. A chamber component configured to be coupled to a process chamber, comprising: a chamber element comprising a first surface on a supply side of said chamber element and a second surface on a process side of said chamber element, said process side opposing said supply side, wh

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Maydan Dan ; Mak Steve S. Y. ; Olgado Donald ; Yin Gerald Zheyao ; Driscoll Timothy D. ; Papanu James S. ; Tepman Avi, Gas injection slit nozzle for a plasma process reactor.
  2. Murakami Takeshi,JPX ; Takeuchi Noriyuki,JPX ; Shinozaki Hiroyuki,JPX ; Tsukamoto Kiwamu,JPX ; Fukunaga Yukio,JPX ; Hongo Akihisa,JPX, Reactant gas ejector head and thin-film vapor deposition apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Pitney, John Allen; Hamano, Manabu, Gas distribution plate for chemical vapor deposition systems and methods of using same.
  2. Denpoh, Kazuki; Ventzek, Peter L G; Xu, Lin; Chen, Lee, Hollow cathode device and method for using the device to control the uniformity of a plasma process.
  3. Zieger, Claus Dieter; Zieger, Niclas Henning; Buzzi, Guenther, Multiple proportion delivery systems and methods.
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